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半導体レーザ装置
其他题名半導体レーザ装置
廣野 卓夫; 大橋 弘美; 関 俊司
1996-02-27
专利权人日本電信電話株式会社
公开日期1996-02-27
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要【目的】 変調ドーピングにより閾値が低減された状況でも効率が低下しない活性構造を有する半導体レーザ装置を提供すること。 【構成】 半導体レーザ装置は結晶成長基板8上に下部クラッド層7、下部ガイド層6、活性層5、上部ガイド層4、上部クラッド層3、キャップ層2を順次結晶成長させ上部電極1、下部電極9をキャップ層2および結晶成長基板8の裏面上にそれぞれ設けてなる。障壁層はZn等で1×1018cm-3以上にp型ドープし、結晶成長の基板に対し絶対値が0.1%以上の格子不整合度を有するように設定する。
其他摘要提供一种具有有源结构的半导体激光器件,其中即使在通过调制掺杂降低阈值的情况下效率也不会降低。 在半导体激光器件中,下包层,下引导层,有源层,上引导层,上包层和盖层在晶体生长衬底8上依次晶体生长以形成上电极1,下部并且电极9设置在盖层2和晶体生长基板8的后表面上。阻挡层是以1×10 18 cm -3 或更大的p等掺杂Zn等,并且具有晶格失配,绝对值为0.1%它被设定为有个度。
申请日期1994-08-10
专利号JP1996056043A
专利状态失效
申请号JP1994188316
公开(公告)号JP1996056043A
IPC 分类号H01S5/00 | H01S3/18
专利代理人谷 義一 (外1名)
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/88198
专题半导体激光器专利数据库
作者单位日本電信電話株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
廣野 卓夫,大橋 弘美,関 俊司. 半導体レーザ装置. JP1996056043A[P]. 1996-02-27.
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JP1996056043A.PDF(26KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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