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半導体レーザ
其他题名半導体レーザ
大郷 毅
2006-12-14
专利权人FUJIFILM HOLDINGS CORP
公开日期2006-12-14
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要【課題】 傾斜基板を用いたInAlGaP系半導体レーザにおいて、ステップバンチングによる特性悪化を防止して、良好な静特性を得るとともに、長寿命化を達成する。 【解決手段】 面方位が傾斜している第一導電型GaAs基板21上に、少なくとも第一導電型Inx1(Al1-y1Gay1)1-x1P下部クラッド層(x1はGaAsに格子整合する組成)23とInGaPもしくはInAlGaPからなる量子井戸層25が積層されてなり、多重横モード発振する半導体レーザにおいて、第一導電型GaAs基板21として、面方位が(100)面から(111)A面方向に13度以上55度以下で傾斜している基板を用いる。 【選択図】図1
其他摘要要解决的问题:提供使用倾斜基板的InAlGaP基半导体激光器,以防止由于阶梯聚束引起的特性劣化,以获得良好的静态特性并实现长寿命。 解决方案:该半导体器件至少具有第一导电类型In x1 (Al 1-y1 Ga y1 ) 1 - x1 P下包层(x1与GaAs晶格匹配)和量子阱层25由InGaP或InAlGaP制成在以多个横向模式堆叠和振荡的半导体激光器中,第一导电类型GaAs衬底21是在(100)平面到(111)A的平面取向上倾斜13度或更大且55度或更小的衬底使用。 点域1
申请日期2005-05-31
专利号JP2006339311A
专利状态失效
申请号JP2005160535
公开(公告)号JP2006339311A
IPC 分类号H01S5/343 | H01S5/00
专利代理人柳田 征史 | 佐久間 剛
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/87049
专题半导体激光器专利数据库
作者单位FUJIFILM HOLDINGS CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
大郷 毅. 半導体レーザ. JP2006339311A[P]. 2006-12-14.
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