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其他题名-
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1982-05-13
专利权人HITACHI LTD
公开日期1982-05-13
授权国家日本
专利类型授权发明
摘要PURPOSE:To produce an enough passivation effect on a semiconductor laser unit and minimize the fluctuation in its threshold current, by providing at least light output end face of the laser unit with a film of an amorphous material which contains Si and H2 as indispensable constituents. CONSTITUTION:A cathode 5 is coated on the reverse side of a GaAs substrate 8. An n-type Ga1-zAlzAs layer 4, an n-type or p-type active Ga1-yAlAs layer 3 and a p-type Ga1-xAlxAs layer 2 are sequentially grown on the obverse side of the substrate. A p-type GaAs layer 7 is produced on the layer 2. Another cathode 1 is coated on the layer 7 and surrounded by an insulator layer 10. The electrodes 1, 5 are connected to a power source. A laser unit is thus constituted. A passivation film 6 is coated on the surface of the unit. The film 6 is made of an H2-containing amorphous Si layer by a sputtering means and may be made of multilayer film structure if necessary. As a result, the end face reflexibility is prevented from changing due to the thickness of the film 6. Therefore, the threshold current does not fluctuate.
其他摘要目的:通过至少为激光单元的光输出端面提供含Si和H 2不可缺少成分的无定形材料膜,为半导体激光器单元产生足够的钝化效果并使其阈值电流的波动最小化。构成:阴极5被涂覆在GaAs衬底8的背面上.n型Ga1-zAlZAs层4,n型或p型有源Ga1-yAlAs层3和p型Ga1-xAlxAs层2依次生长在衬底的正面上。在层2上产生p型GaAs层7.另一个阴极1涂覆在层7上并被绝缘层10包围。电极1,5连接到电源。由此构成激光单元。钝化膜6涂覆在单元的表面上。膜6由含H 2非晶Si层通过溅射装置制成,并且如果需要可以由多层膜结构制成。结果,防止了端面反射性由于膜6的厚度而改变。因此,阈值电流不会波动。
申请日期1979-02-26
专利号JP1982022426B2
专利状态失效
申请号JP1979020802
公开(公告)号JP1982022426B2
IPC 分类号H01S5/00 | H01S5/028
专利代理人-
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/84279
专题半导体激光器专利数据库
作者单位HITACHI LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
-. -. JP1982022426B2[P]. 1982-05-13.
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JP1982022426B2.PDF(285KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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