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半導体レーザ素子とその製造方法
其他题名半導体レーザ素子とその製造方法
本多 正治; 松川 健一
1993-03-26
专利权人三洋電機株式会社
公开日期1993-03-26
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要【目的】 瞬時光学損傷を防止して、高光出力を可能にする簡単な構造のAlGaInP系半導体等からなる半導体レーザ素子とその製造方法を提供することを目的とする。 【構成】 n形AlGaInPクラッド層3とp形AlGaInPクラッド層5の間にAlGaInP活性層4とからなるAlGaInP系半導体レーザ装置において、p形AlGaInPクラッド層5の光放出を行う端面に(NH4)2C4O6溶液で処理した後、熱処理を行うことにより、p形AlGaInPクラッド層5のうち端面付近25のpキャリア濃度を低減し、高抵抗にする。
其他摘要目的:提供一种由AlGaInP半导体等构成的半导体激光器,其具有简单的结构,通过防止瞬间光损伤而允许高光输出,及其制造。组成:在由n型AlGaInP包层3,p型AlGaInP包层5和其间的AlGaInP有源层4组成的AlGaInP半导体激光器件中,在端部进行(NH4)2C4O6溶液处理。进行p型AlGaInP包层5的发光,然后进行热处理,以降低p型AlGaInP包层5的端部25附近的p-载流子浓度,形成高电阻区域。
申请日期1991-09-18
专利号JP1993075206A
专利状态失效
申请号JP1991238105
公开(公告)号JP1993075206A
IPC 分类号H01S5/00 | H01S5/16 | H01S3/18
专利代理人西野 卓嗣
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/83988
专题半导体激光器专利数据库
作者单位三洋電機株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
本多 正治,松川 健一. 半導体レーザ素子とその製造方法. JP1993075206A[P]. 1993-03-26.
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JP1993075206A.PDF(211KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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