Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
Semiconductor laser device | |
其他题名 | Semiconductor laser device |
OBE ISAO; TODOROKI SATORU | |
1987-11-06 | |
专利权人 | HITACHI LTD |
公开日期 | 1987-11-06 |
授权国家 | 日本 |
专利类型 | 发明申请 |
摘要 | PURPOSE:To enable reducing an astigmatic difference by increasing the reflectivity of laser light on the curved wave surface of a fundamentally horizontal transverse mode and by reducing the above-mentioned reflectivity in a region where the fundamentally horizontal transverse mode is near a plane wave. CONSTITUTION:An n-GaAs semiconductor block layer 2 is formed on a p-GaAs semiconductor substrate 1 except a channel region, then a clad layer 3 which is a p-GaAlAs semiconductor optical confinement layer, an (n) or (p) or undope GaAlAs semiconductor active layer 4, a clad layer 5 which is an n-GaAlAs semiconductor optical confinement layer and an n-GaAs semiconductor cap layer 6 are formed in sequence by a well known method and at last, an electrode 7 is provided on the face of the n-GaAs semiconductor cap layer 6 and on the rear of the p-GaAs semiconductor substrate 1 each by evaporation. In this case, the thickness of the semiconductor clad layer 3 is made 0.4mum to cause pulsation. The size of a light emitting region 10 provided on a protection film 9 is made equal to or less than the width of a channel in the horizontal direction for junction and at least equal to or more than the thickness of the semiconductor active layer 4 in the vertical direction for junction and the center of the light emitting region 10 is set to a position where laser light intensity is made maximum. |
其他摘要 | 目的:通过增加激光在基本水平横模的曲面波面上的反射率,并通过在基本水平横模接近平面波的区域内减少上述反射率,减少像散差。组成:除了沟道区域之外,在p-GaAs半导体衬底1上形成n-GaAs半导体阻挡层2,然后是作为p-GaAlAs半导体光学限制层的包层3,(n)或(p)或通过众所周知的方法依次形成未开口的GaAlAs半导体有源层4,作为n-GaAlAs半导体光学限制层的包层5和n-GaAs半导体盖层6,最后,在该层上设置电极7。通过蒸发,在n-GaAs半导体盖层6的表面和p-GaAs半导体衬底1的后面。在这种情况下,使半导体包层3的厚度为0.4μm以引起脉动。设置在保护膜9上的发光区域10的尺寸等于或小于用于结的水平方向上的沟道的宽度,并且至少等于或大于半导体有源层4的厚度。结的垂直方向和发光区域10的中心设置在激光强度最大的位置。 |
申请日期 | 1986-04-28 |
专利号 | JP1987254480A |
专利状态 | 失效 |
申请号 | JP1986096724 |
公开(公告)号 | JP1987254480A |
IPC 分类号 | H01S5/00 | H01S5/065 | H01S3/18 |
专利代理人 | - |
代理机构 | - |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/83416 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | HITACHI LTD |
推荐引用方式 GB/T 7714 | OBE ISAO,TODOROKI SATORU. Semiconductor laser device. JP1987254480A[P]. 1987-11-06. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
JP1987254480A.PDF(279KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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