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半導体レーザ装置
其他题名半導体レーザ装置
西川 幸江; 大場 康夫; 国分 義弘; 石川 正行
1997-08-15
专利权人株式会社東芝
公开日期1997-12-03
授权国家日本
专利类型授权发明
摘要PURPOSE:To reduce the threshold value of a laser oscillation by setting the impurity concentration of an active layer of a double hetero junction made of specific compound on a GaAs substrate to 5X10cm or less. CONSTITUTION:A double hetero junction made of InxGayAl1-x-y (0cm or less. A P-type clad layer 5 contains Zn as impurity, and carrier concentration is set to 1/2 or less of the maximum carrier concentration obtained by doping Zn. Thus, a laser oscillation threshold value can be reduced.
其他摘要用途:通过将GaAs衬底上由特定化合物制成的双异质结的有源层的杂质浓度设定为5×1016cm-3或更低来降低激光振荡的阈值。组成:提供由InxGayAl1-xy(0 <= x <= 1,0 <= y <= 1)制成的双异质结,在GaAs衬底1上形成基本上晶格匹配,以便有源层的杂质浓度结的4个为5×1016cm-3或更小。 P型包层5含有Zn作为杂质,载流子浓度设定为通过掺杂Zn得到的最大载流子浓度的1/2或更小。因此,可以减小激光振荡阈值。
申请日期1988-02-10
专利号JP2685778B2
专利状态失效
申请号JP1988027668
公开(公告)号JP2685778B2
IPC 分类号H01S | H01S5/00 | H01S3/18
专利代理人大胡 典夫
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/83143
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社東芝
推荐引用方式
GB/T 7714
西川 幸江,大場 康夫,国分 義弘,等. 半導体レーザ装置. JP2685778B2[P]. 1997-08-15.
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