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半导体激光装置及其制造方法
其他题名半导体激光装置及其制造方法
文基愿; 朴钟翼; 金裕承; 吴蕙兰
2006-05-03
专利权人三星电机株式会社
公开日期2006-05-03
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明提供了一种能抑制由于其输出增加引起的远场水平(FFH)变化的高输出半导体激光装置及其制造方法。根据本发明的半导体激光装置包括第一导电型的第一覆层,形成在衬底上;活性层,形成在第一覆层上;第二导电型的第二覆层,形成在活性层上,并包含具有脊状结构的上部区域,其中第二覆层具有至少一个插入脊状结构的高折射率层,该高折射率层具有高于第二覆层的折射率。
其他摘要本发明提供了一种能抑制由于其输出增加引起的远场水平(FFH)变化的高输出半导体激光装置及其制造方法。根据本发明的半导体激光装置包括第一导电型的第一覆层,形成在衬底上;活性层,形成在第一覆层上;第二导电型的第二覆层,形成在活性层上,并包含具有脊状结构的上部区域,其中第二覆层具有至少一个插入脊状结构的高折射率层,该高折射率层具有高于第二覆层的折射率。
申请日期2005-06-24
专利号CN1767283A
专利状态失效
申请号CN200510080013.5
公开(公告)号CN1767283A
IPC 分类号H01S5/022 | H01S5/00 | H01S5/30
专利代理人李伟 | 宋子良
代理机构北京康信知识产权代理有限责任公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/82681
专题半导体激光器专利数据库
作者单位三星电机株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
文基愿,朴钟翼,金裕承,等. 半导体激光装置及其制造方法. CN1767283A[P]. 2006-05-03.
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