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Semiconductor laser
其他题名Semiconductor laser
UENO SHINSUKE
1988-03-18
专利权人NEC CORP
公开日期1988-03-18
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要PURPOSE:To generate stable self-exciting vibration, to implement a low noise characteristic and to make it possible to maintain basic lateral-mode oscillation, by setting special relationships between refractive indexes of first-fifth clad layers, and making all refractive indexes smaller than the refractive index of an active layer. CONSTITUTION:On an N-type GaAs substrate 10, the following layers are continuously grown by an MOCVD method: an N-type Al0.45Ga0.55As first clad layer 11; a N-type Al0.15Ga0.85As active layer 12; a P-type Al0.45Ga0.55As second clad layer 13; a P-type Al0.36Ga0.64As third clad layer 14; an N-type Al0.5Ga0.5As fourth clad layer 15; and an N-type GaAs block layer 16. After a photoresist film 18 is removed, a groove is formed. A P-type Al0.4Ga0.6As fifth clad layer 20 and a P-type GaAs cap layer 21 are continuously grown. Refractive indexes n1-n5 of the first-fifth clad layers are all smaller than the refractive index of the active layer 12. Relationships n1
其他摘要目的:通过设置第一至第五层包层的折射率之间的特殊关系,并使所有折射率小于,以产生稳定的自激振动,实现低噪声特性并且可以保持基本的横向模式振荡。有源层的折射率。组成:在N型GaAs衬底10上,通过MOCVD方法连续生长以下层:N型Al0.45Ga0.55As第一包层11; N型Al0.15Ga0.85As有源层12; P型Al0.45Ga0.55As第二包层13; P型Al0.36Ga0.64As第三包层14; N型Al0.5Ga0.5As第四包层15;在去除光致抗蚀剂膜18之后,形成沟槽和N型GaAs阻挡层16。 P型Al0.4Ga0.6As第五包层20和P型GaAs盖层21连续生长。第一至第五包层的折射率n1-n5均小于有源层12的折射率。获得关系n1
申请日期1986-09-03
专利号JP1988062391A
专利状态失效
申请号JP1986208188
公开(公告)号JP1988062391A
IPC 分类号H01S5/00 | H01S5/042 | H01S5/065 | H01S3/18
专利代理人-
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/80801
专题半导体激光器专利数据库
作者单位NEC CORP
推荐引用方式
GB/T 7714
UENO SHINSUKE. Semiconductor laser. JP1988062391A[P]. 1988-03-18.
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