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半導体レーザー装置
其他题名半導体レーザー装置
上野山 雄
1995-09-26
专利权人MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
公开日期1995-09-26
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要【目的】 低しきい値電流動作が可能で、消費電力の低減及び長寿命化を図ることのできる半導体レーザー装置を実現する。 【構成】 ZnSeからなる井戸層11を有する多重量子井戸16を光ガイド層13で挟み、さらにZnMgSSeからなるクラッド層12で挟み込むことにより、半導体レーザー装置を構成する。光ガイド層13を、ZnMgSSe15と間接遷移型の半導体であるAlAs14とからなる超格子構造によって構成する。光ガイド層13の厚さを1000オングストロームとし、多重量子井戸16における井戸層11の幅を50オングストローム、バリア層の幅を60オングストロームとする。
其他摘要[目的]实现一种低阈值电流工作的半导体激光器件,能够降低功耗,延长寿命。 半导体激光器件通过在光导层(13)和由ZnMgSSe制成的包层(12)之间夹入具有由ZnSe制成的阱层(11)的多个量子阱(16)构成。光导层13由超晶格结构形成,该超晶格结构由ZnMgSSe 15和AlAs 14组成,AlAs 14是间接过渡型半导体。光导层13的厚度为1000埃,多量子阱16中的阱层11的宽度为50埃,阻挡层的宽度为60埃。
申请日期1994-03-14
专利号JP1995249826A
专利状态失效
申请号JP1994042252
公开(公告)号JP1995249826A
IPC 分类号H01S5/00 | H01S3/18
专利代理人池内 寛幸 (外1名)
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/80645
专题半导体激光器专利数据库
作者单位MATSUSHITA ELECTRIC IND CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
上野山 雄. 半導体レーザー装置. JP1995249826A[P]. 1995-09-26.
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