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Semiconductor laser diode and method for manufacturing the same
其他题名Semiconductor laser diode and method for manufacturing the same
AHN, HYUNG S.; NO, MIN S.; SI, SANG K.; CHOI, WON T.; SEO, JOO O.; LIM, JIN H.; YANG, MIN
1995-08-29
专利权人GOLDSTAR CO., LTD.
公开日期1995-08-29
授权国家美国
专利类型授权发明
摘要A semiconductor laser diode includes a semiconductor substrate, an active layer having a double hetero structure formed on the semiconductor substrate, a first quantum well layer formed between the active layer and the current confinement layer, a second quantum well layer formed on the active layer corresponding to the current injection groove, and a clad layer having its flat surface formed on the current injection groove and the current confinement layer. A method for manufacturing the semiconductor laser diode includes the steps of forming an active layer having a double hetero structure on the semiconductor substrate, selectively forming a current confinement layer on the active layer to form a current injection groove, forming a clad layer having its flat surface on the current injection groove and the current confinement layer.
其他摘要半导体激光二极管包括半导体衬底,在半导体衬底上形成的具有双异质结构的有源层,在有源层和电流限制层之间形成的第一量子阱层,在有源层上形成的第二量子阱层在电流注入槽和电流限制层上形成有平坦表面的电流注入槽和电流限制层。制造半导体激光二极管的方法包括以下步骤:在半导体衬底上形成具有双异质结构的有源层,在有源层上选择性地形成电流限制层以形成电流注入槽,形成具有其平坦的包层电流注入槽和电流限制层上的表面。
申请日期1993-05-27
专利号US5445993
专利状态失效
申请号US08/067834
公开(公告)号US5445993
IPC 分类号H01L33/00 | H01S5/00 | H01S5/042 | H01S5/34 | H01L21/20
专利代理人-
代理机构FINNEGAN,HENDERSON,FARABOW,GARRETT & DUNNER
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/80627
专题半导体激光器专利数据库
作者单位GOLDSTAR CO., LTD.
推荐引用方式
GB/T 7714
AHN, HYUNG S.,NO, MIN S.,SI, SANG K.,et al. Semiconductor laser diode and method for manufacturing the same. US5445993[P]. 1995-08-29.
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