Fabrication of grating waveguides based on Nano-imprint lithography and silicon mould replication techniques. | |
Liu Yueming(刘雪明); Tiang Weijian(田维坚); Liu Yueming | |
2004 | |
会议名称 | Proceedings of SPIE: Photonics Asia |
会议日期 | 2004 |
会议地点 | * |
作者部门 | 信息光子学研究室 |
收录类别 | EI |
ISBN号 | ISBN 0-8194-5626-8 |
文献类型 | 会议论文 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/7916 |
专题 | 信息光子学研究室 |
通讯作者 | Liu Yueming |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Liu Yueming,Tiang Weijian,Liu Yueming. Fabrication of grating waveguides based on Nano-imprint lithography and silicon mould replication techniques.[C],2004. |
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文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
Fabrication of grati(158KB) | 限制开放 | -- | 请求全文 |
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