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Buried semiconductor laser
其他题名Buried semiconductor laser
SUGIMOTO MITSUNORI
1983-02-24
专利权人NIPPON ELECTRIC CO
公开日期1983-02-24
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要PURPOSE:To obtain a buried semiconductor laser capable of operating at high power and high temperature with extremely small leakage current by forming semiconductor layers having a forbidden band width smaller than that of a current block layer at both sides of an active layer. CONSTITUTION:A lower clad layer 31, an active layer 32, an upper clad layer 33 and a cap layer 34 are formed by a liquid phase epitaxial technique on an N type InP substrate 30. Then, the layers 34, 33, 32 are striped by photoetching with an SiO2 film or the like as a mask. Thereafter, an InGaAsP layer 35, a current block layer 36, a buried layer 37 and an N type InGaAsP layer 38 are formed by a liquid phase epitaxial technique. Since the layer 35 has a forbidden band width narrower than a current block layer (P type InP) 36, the gain of an N-P-N transistor 43 is lowered. Accordingly, even if a gate current IG flows, the P-N-P-N structure is not turned ON, and the leakage current IL can be set substantially to zero.
其他摘要目的:通过形成禁带宽度小于有源层两侧电流阻挡层的半导体层,获得能够在高功率和高温下以极小的漏电流工作的掩埋半导体激光器。组成:下层包层31,有源层32,上包层33和盖层34通过液相外延技术在N型InP衬底30上形成。然后,层34,33,32是条纹的通过用SiO 2膜等光刻作为掩模进行光刻。之后,通过液相外延技术形成InGaAsP层35,电流阻挡层36,掩埋层37和N型InGaAsP层38。由于层35具有比当前阻挡层(P型InP)36窄的禁带宽度,所以降低了N-P-N晶体管43的增益。因此,即使栅极电流IG流动,P-N-P-N结构也不导通,并且漏电流IL可以基本上设置为零。
申请日期1981-08-18
专利号JP1983031592A
专利状态失效
申请号JP1981129056
公开(公告)号JP1983031592A
IPC 分类号H01S5/00 | H01S5/227 | H01S3/18
专利代理人-
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/78281
专题半导体激光器专利数据库
作者单位NIPPON ELECTRIC CO
推荐引用方式
GB/T 7714
SUGIMOTO MITSUNORI. Buried semiconductor laser. JP1983031592A[P]. 1983-02-24.
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JP1983031592A.PDF(135KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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