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半導体レーザおよびその製造方法
其他题名半導体レーザおよびその製造方法
木戸口 勲; 足立 秀人; 上山 智; 大仲 清司
2001-11-02
专利权人松下電器産業株式会社
公开日期2002-01-15
授权国家日本
专利类型授权发明
摘要【目的】 可視光領域に発振波長を有する半導体レーザに関するもので、相対雑音強度の低い半導体レーザを容易に歩留まりよく提供する。 【構成】 半導体レーザのp-(Al0.6Ga0.4)0.5In0.5Pクラッド層5の一部が台形状のストライプである。電流狭窄層がn-Al0.5Ga0.5As層とn-GaAs電流狭窄層の2層から成っている。
其他摘要半导体激光器本发明涉及一种在可见光区域具有振荡波长的半导体激光器,并且以高产率容易地提供具有低相对强度强度的半导体激光器。 一种半导体激光器,包括:半导体激光器,具有p-(Al 0.6 Ga 0.4 ) 0.5 In 0.5 P半导体激光器包层条纹的一部分是梯形条纹。电流限制层由两层n-Al 0.5 Ga 0.5 As层和n-GaAs电流限制层组成。
申请日期1993-12-28
专利号JP3246148B2
专利状态失效
申请号JP1993336373
公开(公告)号JP3246148B2
IPC 分类号H01L | H01S | H01L33/06 | H01S5/065 | H01L33/14 | H01L33/30 | H01S5/00 | H01S5/223
专利代理人岩橋 文雄 (外2名)
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/77837
专题半导体激光器专利数据库
作者单位松下電器産業株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
木戸口 勲,足立 秀人,上山 智,等. 半導体レーザおよびその製造方法. JP3246148B2[P]. 2001-11-02.
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