OPT OpenIR  > 半导体激光器专利数据库
窒化物半導体レーザ素子
其他题名窒化物半導体レーザ素子
妹尾 雅之; 山田 孝夫; 中村 修二
2004-02-20
专利权人日亜化学工業株式会社
公开日期2004-04-26
授权国家日本
专利类型授权发明
摘要【目的】 窒化物半導体を用いてレーザ素子を実現するにあたり、まず反射鏡となる適切な光共振面を形成することにより、レーザ発振が可能となるレーザ素子を提供する。 【構成】 基板上に窒化物半導体(InXAlYGa1-X-YN、0≦X、0≦Y、X+Y≦1)が積層されてなるレーザ素子であって、そのレーザ素子の光共振面の少なくとも一方に誘電体多層膜が形成されていることにより、光共振面の反射率を高めレーザ発振させる。
其他摘要目的:通过形成具有与氮化物半导体表面上的振荡波长相对应的反射系数的电介质多层膜,形成转向反射镜的合适的光学共振表面,转向光学共振表面。组成:通过层压由GaN组成的缓冲层2,N型接触层3,N型覆层4,第二N型覆层5,未掺杂的有源层6,P形成双异质结构在蓝宝石衬底1的[0001]面上的类型的包覆层7和P型接触层8.条形的正电极12形成在P型接触层8的表面上,并且负电极在N型接触层3的表面上形成图11所示的结构。在氮化物半导体(Inx Aly Ga1-xy,0 <= x,0 <= y,x + y)上交替层叠相应的10层SiO2和TiO2。 <= 1)表面和蓝宝石衬底,以形成电介质多层膜20.电介质多层膜20形成在氮化物半导体层的相对表面上,反射从有源层发射的光,并用作完美的光学谐振表面。
申请日期1995-01-12
专利号JP3523700B2
专利状态失效
申请号JP1995003033
公开(公告)号JP3523700B2
IPC 分类号H01S5/30 | H01L | H01S | H01S5/323 | H01L33/12 | H01L33/16 | H01S5/042 | H01L33/32 | H01S5/00 | H01L33/20 | H01L33/00
专利代理人青山 葆 (外2名)
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/75604
专题半导体激光器专利数据库
作者单位日亜化学工業株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
妹尾 雅之,山田 孝夫,中村 修二. 窒化物半導体レーザ素子. JP3523700B2[P]. 2004-02-20.
条目包含的文件
文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
JP3523700B2.PDF(359KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
个性服务
推荐该条目
保存到收藏夹
查看访问统计
导出为Endnote文件
谷歌学术
谷歌学术中相似的文章
[妹尾 雅之]的文章
[山田 孝夫]的文章
[中村 修二]的文章
百度学术
百度学术中相似的文章
[妹尾 雅之]的文章
[山田 孝夫]的文章
[中村 修二]的文章
必应学术
必应学术中相似的文章
[妹尾 雅之]的文章
[山田 孝夫]的文章
[中村 修二]的文章
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。