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Semiconductor laser device
其他题名Semiconductor laser device
HATAGOSHI GENICHI; ISHIKAWA MASAYUKI; OKUDA HAJIME; SHIOZAWA HIDEO; UEMATSU YUTAKA
1989-09-18
专利权人株式会社東芝
公开日期1989-09-18
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要PURPOSE:To make the thickness of a double hetero-structure section the most adequate by a method wherein the thickness of an active layer is set to be within the range where a specific condition toward a specific refractivity difference determined by refractivities of the active layer and a clad layer and an oscillating wavelength is satisfied. CONSTITUTION:A semiconductor laser device is provided with a double hetero- structure composed of an In(Ga1-XAlX) active layer 12 and two In(Ga1-YAlY)P clad layer (0, with reference to a specific refractivity difference, DELTA=(na-nc)2na, and an oscillating wavelength lambda is satisfied, and moreover it is more desirable that d is so set as to satisfy an equality, d/lambda 0.022DELTA. By these processes, the rise of the threshold current density can be limited to the extent which can be negligible, so that an InGaAlP semiconductor laser low in a threshold value can be realized.
其他摘要目的:通过以下方法使双异质结构部分的厚度最为合适:其中活性层的厚度设定在这样的范围内,其中特定条件朝向由有源层的折射率确定的比折射率差,满足包层和振荡波长。结构:半导体激光器件具有由In(Ga1-XAlX)有源层12和两个In(Ga1-YAlY)P包层(0
申请日期1988-03-14
专利号JP1989232787A
专利状态失效
申请号JP1988059908
公开(公告)号JP1989232787A
IPC 分类号H01S5/00 | H01S3/18
专利代理人-
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/75576
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社東芝
推荐引用方式
GB/T 7714
HATAGOSHI GENICHI,ISHIKAWA MASAYUKI,OKUDA HAJIME,et al. Semiconductor laser device. JP1989232787A[P]. 1989-09-18.
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