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半導体発光装置
其他题名半導体発光装置
石橋 晃; 森 芳文
1996-09-05
专利权人ソニー株式会社
公开日期1996-11-27
授权国家日本
专利类型授权发明
摘要PURPOSE:To increase the degrees of freedom of the selection of materials and compositions, to widen a range of the selection of emission wavelengths and to obtain a stable light-emitting device with excellent reproducibility by alternately growing a plurality of mutually different substance layers consisting of a simple substance of eight atom layers or less each containing fractions or a binary compound semiconductor substance in an epitaxial manner. CONSTITUTION:Semiconductor layers having superlattice structure in which a plurality of mutually different substance layers L1-LN each composed of layers of eight atom layers or less (also containing fractions) are grown through a MOCVD method or a MBE method in succession at a plurality (M) of periods are shaped onto a single crystal substrate 10 consisting of GaAs, etc., thus constituting a light-emitting region in a semiconductor light-emitting device. Consequently, the arrangement of anions and cations is generated spatially uniformly, and stable luminous characteristics are acquired. Since a composition ratio as a whole is determined separately by the atomic layer ratios and lamination ratios of each substance layer, the degree of freedom of the selection of a component, the degree of the selection of the range of emission wavelengths, is increased. The degree of the selection of materials is improved by taking superlattice structure.
其他摘要目的:增加材料和成分选择的自由度,扩大发射波长选择的范围,通过交替生长由多个相互不同的物质层组成,获得具有优异再现性的稳定发光装置8个原子层或更少的单个物质,每个包含部分或外延方式的二元化合物半导体物质。组成:具有超晶格结构的半导体层,其中多个相互不同的物质层L1-LN,每个由8个或更少原子层(也包含分数)组成,通过MOCVD方法或MBE方法连续生长多个(M)个周期被成形到由GaAs等构成的单晶衬底10上,从而构成半导体发光器件中的发光区域。因此,阴离子和阳离子的排列在空间上均匀地产生,并且获得稳定的发光特性。由于组成比整体由每个物质层的原子层比和层压比分别确定,因此组分选择的自由度,发射波长范围的选择程度增加。通过采用超晶格结构改善材料选择的程度。
申请日期1984-10-05
专利号JP2557040B2
专利状态失效
申请号JP1984209302
公开(公告)号JP2557040B2
IPC 分类号H01L33/34 | H01L | H01S | H01L33/06 | H01L33/30 | H01S5/00 | H01L33/00 | H01S3/18
专利代理人松隈 秀盛
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/75551
专题半导体激光器专利数据库
作者单位ソニー株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
石橋 晃,森 芳文. 半導体発光装置. JP2557040B2[P]. 1996-09-05.
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