Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
| 半導体レーザ及びその製造方法 | |
| 其他题名 | 半導体レーザ及びその製造方法 |
| 玉田 仁志; 山口 恭司 | |
| 1999-06-18 | |
| 专利权人 | SONY CORP |
| 公开日期 | 1999-06-18 |
| 授权国家 | 日本 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 摘要 | 【課題】半導体レーザにおけるファーフィールドパターン(FFP:遠視野像)を狭幅化して、光利用効率を向上させる。 【解決手段】レーザ共振器の出射端面外側近傍に、出射レーザ光の光軸に沿ってミラーM1 、M2 を設ける。ミラーM1 、M2 に関する発光点Oの鏡像点O1 、O2 が夫々仮想光源となり、これら3つの光源からの光の干渉及びミラー端開口部での回折により、FFPが整形されて狭幅化する。このFFPの制御は、例えば、発光点Oと各ミラーM1 、M2 との距離によるa、各ミラーM1 、M2 の長さd、及び、各ミラーM1 、M2 の複素反射率rにより行う。一方のミラーM1のみでも、FFPの整形は可能である。 |
| 其他摘要 | 要解决的问题：通过允许半导体激光器的远场图案（FFP）更窄来提高光学利用效率。解决方案：在激光谐振器的外部发射端面附近，沿发射的激光的光轴提供反射镜M1和M2。对于反射镜M1和M2的发光点O的镜像点O1和O2作为虚拟光源，并且由于来自三个光源的光的干涉和镜端开口部分形状的衍射，FFP变得更窄在宽度。 FFP的控制例如在发光点O与各反射镜M1和M2之间的距离，各反射镜M1和M2的长度（d）以及各反射镜的复合反射率（r）下进行。 M1和M2。 FFP可以仅用一个镜子M1成形。 |
| 申请日期 | 1997-11-27 |
| 专利号 | JP1999163461A |
| 专利状态 | 失效 |
| 申请号 | JP1997325922 |
| 公开（公告）号 | JP1999163461A |
| IPC 分类号 | F23G5/033 | F23G5/04 | B09B3/00 | F23G7/12 | F23J1/00 | H01S5/00 | F23G5/02 | H01S3/18 |
| 专利代理人 | 逢坂 宏 |
| 代理机构 | - |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/73052 |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | SONY CORP |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 玉田 仁志,山口 恭司. 半導体レーザ及びその製造方法. JP1999163461A[P]. 1999-06-18. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| JP1999163461A.PDF（56KB） | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 | ||
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