Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
Multibeam semiconductor laser device | |
其他题名 | Multibeam semiconductor laser device |
SHIMADA KATSUTO | |
1988-06-13 | |
专利权人 | SEIKO EPSON CORP |
公开日期 | 1988-06-13 |
授权国家 | 日本 |
专利类型 | 发明申请 |
摘要 | PURPOSE:To improve the property of heat radiation by gluing a base stand equipped with the paired number of a conductive material interconnection for laser beam and a multibeam semiconductor laser element on a heat sink through soldering materials with a junction-down method. CONSTITUTION:After conductive materials for outgoing electrodes such as Au form a film on a single crystal sapphire (Al2O3) heat sink 101 with a spatter process, its film is treated by patterning with an ordinary photolighographic process and then, the outgoing electrodes 103 are formed into a based stand. Further, a multibeam semiconductor laser element 104 is glued through a soldering material with a junction-down method and a common electrode as well as the outgoing electrode 103 are treated by bonding with gold wires 105 and then, the interconnection of respective electrodes is formed. |
其他摘要 | 目的:通过将具有成对数量的激光束导电材料互连的基座和多束半导体激光元件通过焊接材料通过结合方法粘合在散热器上来改善热辐射性能。组成:用于诸如Au的输出电极的导电材料在飞溅工艺的单晶蓝宝石(Al2O3)散热器101上形成薄膜之后,通过用普通的光学照相工艺图案化处理其薄膜,然后形成输出电极103进入一个基础的立场。此外,通过焊接材料胶合多束半导体激光元件104,通过结合方法和公共电极以及通过与金线105结合处理引出电极103,然后,形成各个电极的互连。 |
申请日期 | 1986-12-04 |
专利号 | JP1988141385A |
专利状态 | 失效 |
申请号 | JP1986289143 |
公开(公告)号 | JP1988141385A |
IPC 分类号 | H01L21/52 | H01S5/00 | H01S3/18 |
专利代理人 | - |
代理机构 | - |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/70739 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | SEIKO EPSON CORP |
推荐引用方式 GB/T 7714 | SHIMADA KATSUTO. Multibeam semiconductor laser device. JP1988141385A[P]. 1988-06-13. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
JP1988141385A.PDF(145KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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