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Manufacture of semiconductor laser device
其他题名Manufacture of semiconductor laser device
KOBAYASHI MASAYOSHI; MORI MITSUHIRO; TSUJI SHINJI; SAITOU KATSUTOSHI; CHIBA KATSUAKI; MORI TAKAO; SATOU NOBU; KATOU HIROSHI; KOBAYASHI MASAMICHI
1983-06-28
专利权人HITACHI SEISAKUSHO KK
公开日期1983-06-28
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要PURPOSE:To reduce the stress imposed on the inside of a semiconductor laser element and thus obtain one available for a long time operation by a method wherein, after die bonding, the device is heated again to a temperature over the melting point of solder and applied to the treatment to cool it in a state that a compression stress is impressed on the side surface of a sub mount. CONSTITUTION:When there is a relation alphaL
其他摘要用途:为了减少施加在半导体激光器元件内部的应力,从而通过一种方法获得可用于长时间操作的应力,其中在管芯键合之后,将器件再次加热到焊料熔点以上的温度并施加在压缩应力施加在子底座的侧表面上的状态下对其进行冷却处理。组成:当半导体激光元件1的热膨胀系数αL与子底座2的αS之间存在αL
申请日期1981-12-23
专利号JP1983108784A
专利状态失效
申请号JP1981206935
公开(公告)号JP1983108784A
IPC 分类号H01L21/52 | H01S5/00 | H01S5/02 | H01S5/022 | H01L21/58 | H01S3/18
专利代理人-
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/70464
专题半导体激光器专利数据库
作者单位HITACHI SEISAKUSHO KK
推荐引用方式
GB/T 7714
KOBAYASHI MASAYOSHI,MORI MITSUHIRO,TSUJI SHINJI,et al. Manufacture of semiconductor laser device. JP1983108784A[P]. 1983-06-28.
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JP1983108784A.PDF(99KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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