Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
マルチビーム光源ユニット、光走査装置及び画像形成装置 | |
其他题名 | マルチビーム光源ユニット、光走査装置及び画像形成装置 |
増田 浩二 | |
2012-06-15 | |
专利权人 | 株式会社リコー |
公开日期 | 2012-08-29 |
授权国家 | 日本 |
专利类型 | 授权发明 |
摘要 | 【課題】大型化及び高コスト化を招くことなく、複数の光ビームを安定して出射することができるマルチビーム光源ユニットを提供する。 【解決手段】シングルビーム光源LD1から出射されたTM偏光の光ビームはレンズ1で整形された後、偏光光学素子2に入射する。一方、シングルビーム光源LD2から出射されたTM偏光の光ビームは、レンズ4で整形され、λ/2板5でTE偏光とされた後、回折光学素子3で偏向されて偏光光学素子2に入射する。偏光光学素子2に入射した各光ビームは、互いに同一方向に出射される。これにより、偏光光学素子2に入射する各光ビームの入射方向を任意に設定することができる。 【選択図】図3 |
其他摘要 | 要解决的问题:提供一种能够稳定地发射多个光束而不会引起大尺寸和成本增加的多光束光源单元。 ŽSOLUTION:从单光束光源LD1发射的TM偏振光束由透镜1成形,然后进入偏振光学元件2.从单光束光源LD2发射的TM偏振光束由透镜4由λ/ 2板5进行TE偏振。然后它被衍射光学元件3偏转,并进入偏振光学元件2.进入偏振光学元件2的各个光束被发射出去。在同一个方向。因此,可以任意设定进入偏振光学元件2的光束的进入方向。 Ž |
申请日期 | 2006-02-07 |
专利号 | JP5013579B2 |
专利状态 | 授权 |
申请号 | JP2006029104 |
公开(公告)号 | JP5013579B2 |
IPC 分类号 | B41J2/44 | H04N1/113 | G02B27/28 | G02B5/30 | G02B26/10 | H01S5/022 |
专利代理人 | 立石 篤司 |
代理机构 | - |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/69924 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 株式会社リコー |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 増田 浩二. マルチビーム光源ユニット、光走査装置及び画像形成装置. JP5013579B2[P]. 2012-06-15. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
JP5013579B2.PDF(113KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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