Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
半導体レーザ素子 | |
其他题名 | 半導体レーザ素子 |
菅原 岳; 木戸口 勲; 宮永 良子; 鈴木 政勝; 粂 雅博; 伴 雄三郎; 平山 福一 | |
2002-10-18 | |
专利权人 | 松下電器産業株式会社 |
公开日期 | 2002-10-18 |
授权国家 | 日本 |
专利类型 | 发明申请 |
摘要 | 【課題】 半導体レーザ素子の高出力化又は短波長化に対応できる端面反射膜を得られるようにする。 【解決手段】 半導体レーザ素子10には、窒化ガリウムからなる障壁層と窒化インジウムガリウムからなる井戸層とにより構成される量子井戸活性層11が少なくともn型とp型の各窒化アルミニウムガリウムからなる光ガイド層に上下方向から挟まれてなる共振器12が形成されている。共振器12におけるレーザ光100の出射端面10aと反対側の反射端面10bには端面反射膜13が設けられている。端面反射膜13は、共振器12の端面側から順次成膜された酸化シリコンからなる低屈折率膜13aと酸化ニオブからなる高屈折率膜13bとにより構成される単位反射膜130を複数含むように構成されている。 |
其他摘要 | 要解决的问题:提供可以对应于半导体激光器元件的高输出或镜头波长的端面反射膜。解决方案:在半导体层元件10中,谐振器12,其中由氮化镓形成的阻挡层构成的量子阱有源层11和由氮化铟镓形成的阱层夹在由n型和p构成的光导层之间。形成从上/下方向的氮化铝镓。端面反射膜13设置在谐振器12中的激光束100的发射端面10a的相对侧上的反射端面10b中。端面反射膜13包括由多个单元反射膜130构成的多个单元反射膜130。由氧化硅形成的低折射率膜13a和由氧化铌形成的高折射率膜13b,二者均从谐振器12的端面侧依次形成。 |
申请日期 | 2000-11-28 |
专利号 | JP2002305348A |
专利状态 | 授权 |
申请号 | JP2002031984 |
公开(公告)号 | JP2002305348A |
IPC 分类号 | H01S5/028 | G11B7/125 |
专利代理人 | 前田 弘 (外7名) |
代理机构 | - |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/69591 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 松下電器産業株式会社 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 菅原 岳,木戸口 勲,宮永 良子,等. 半導体レーザ素子. JP2002305348A[P]. 2002-10-18. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
JP2002305348A.PDF(73KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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