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レーザ走査光学装置
其他题名レーザ走査光学装置
鹿子嶋 一晴; 木下 博喜; 芝田 悦子
2009-11-12
专利权人KONICA MINOLTA BUSINESS TECHNOLOGIES INC
公开日期2009-11-12
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要【課題】ビーム合成素子として使用されるミラーブロックの各反射面への誤差の累積を緩和できるようにしたレーザ走査光学装置を得る。 【解決手段】画像データに基づいて変調されたレーザビームLで像担持体上を走査するレーザ走査光学装置。最上段のレーザダイオード11Yから発せられたビームLyはシリンダレンズ15に入射する。上から2段目のレーザダイオード11Mから発せられたビームLmは反射面14Mで反射され、3段目のレーザダイオード11Cから発せられたビームLcは反射面14Cで反射され、最下段のレーザダイオード11Kから発せられたビームLkは反射面14Kで反射され、それぞれシリンダレンズ15に入射する。反射面14M,14C,14Kを有するミラーブロック14は副走査方向Zの中央部に配置された反射面14Cが突起37,38に当接することで位置決めされている。 【選択図】図2
其他摘要要解决的问题:获得一种激光扫描光学设备,该设备可以减轻用作光束组合元件的镜块的每个反射表面上的误差累积。 一种激光扫描光学设备,其利用基于图像数据调制的激光束扫描图像载体。从最上面的激光二极管11Y发射的光束Ly入射在柱面透镜15上。光束LM从激光二极管11M从顶部被反射面反射的14M第二级发射,来自第三级的激光二极管11C发射的光束Lc是反射面14C,最下面的激光二极管11K反射被反射表面14K反射并入射在柱面透镜15上。具有反射表面14M,14C和14K的镜块14通过设置在副扫描方向Z上的中心部分处的反射表面14C定位,该反射表面14C抵靠突起37,38。 .The
申请日期2008-04-22
专利号JP2009265160A
专利状态失效
申请号JP2008111368
公开(公告)号JP2009265160A
IPC 分类号H04N1/036 | B41J2/44 | H04N1/113 | G02B26/10
专利代理人森下 武一 | 谷 和紘
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/68219
专题半导体激光器专利数据库
作者单位KONICA MINOLTA BUSINESS TECHNOLOGIES INC
推荐引用方式
GB/T 7714
鹿子嶋 一晴,木下 博喜,芝田 悦子. レーザ走査光学装置. JP2009265160A[P]. 2009-11-12.
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JP2009265160A.PDF(77KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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