Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
| III族氮化物半导体激光元件、制作III族氮化物半导体激光元件的方法、评价III族氮化物半导体激光元件的光谐振器用的端面的方法、评价刻划槽的方法 | |
| 其他题名 | III族氮化物半导体激光元件、制作III族氮化物半导体激光元件的方法、评价III族氮化物半导体激光元件的光谐振器用的端面的方法、评价刻划槽的方法 |
| 高木慎平 | |
| 2015-06-24 | |
| 专利权人 | 住友电气工业株式会社 |
| 公开日期 | 2015-06-24 |
| 授权国家 | 中国 |
| 专利类型 | 发明申请 |
| 摘要 | 在III族氮化物的c轴向m轴的方向倾斜的基板的半极性面上具有能够减少反馈光的扰乱的激光谐振器的III族氮化物半导体激光器中，在角度ALPHA为71度以上且79度以下的范围时，角度α1为10度以上且25度以下的范围，角度β1为0度以上且5度以下的范围。在与外延面靠近的第一面附近的第一端面中，在m-n面内，第一法线矢量ENV1与c+轴矢量VC+所成的角度具有接近角度α1的值(例如10度以上且25度以下的范围)。在基板背面附近的第一端面中，在m-n面内，第二法线矢量ENV2与c+轴矢量VC+所成的角度具有接近角度β1的值(例如0度以上且5度以下的范围)。 |
| 其他摘要 | 在III族氮化物的c轴向m轴的方向倾斜的基板的半极性面上具有能够减少反馈光的扰乱的激光谐振器的III族氮化物半导体激光器中，在角度ALPHA为71度以上且79度以下的范围时，角度α1为10度以上且25度以下的范围，角度β1为0度以上且5度以下的范围。在与外延面靠近的第一面附近的第一端面中，在m-n面内，第一法线矢量ENV1与c+轴矢量VC+所成的角度具有接近角度α1的值(例如10度以上且25度以下的范围)。在基板背面附近的第一端面中，在m-n面内，第二法线矢量ENV2与c+轴矢量VC+所成的角度具有接近角度β1的值(例如0度以上且5度以下的范围)。 |
| 主权项 | 一种III族氮化物半导体激光元件，其特征在于， 具备：激光结构体，包括由六方晶系的III族氮化物半导体构成且具有半极性主面的支承基体及设置在所述支承基体的所述半极性主面上的半导体区域；和 电极，设置在所述激光结构体的所述半导体区域上， 所述支承基体的所述III族氮化物半导体的c轴朝向轴方向， 所述轴方向由c+轴矢量表示， 所述半导体区域具有包含氮化镓系半导体层的活性层， 在所述支承基体的所述III族氮化物半导体的从所述c轴向所述III族氮化物半导体的[-1010]轴的方向上，该c轴相对于所述半极性主面的法线轴成角度ALPHA，所述角度ALPHA为71度以上且79度以下的范围， 所述激光结构体包括第一端面及第二端面，所述第一端面及所述第二端面与由所述III族氮化物半导体的m轴及所述法线轴规定的m-n面交叉，该III族氮化物半导体激光元件的激光谐振器包括所述第一端面及所述第二端面， 所述激光结构体包括第一面及第二面，所述第一面是所述第二面的相反侧的面，所述半导体区域位于所述第一面与所述支承基体之间， 所述第一端面的第一法线矢量被规定在所述第一端面和所述第一面的第一边缘上，所述c+轴矢量在从所述[-1010]轴朝向所述c轴的方向上在所述m-n面内相对于所述第一法线矢量以角度α1倾斜，所述角度α1是10度以上且25度以下的范围， 所述第一端面的第二法线矢量被规定在所述第一端面和所述第二面的第二边缘上，所述c+轴矢量在从所述[-1010]轴朝向所述c轴的方向上在所述m-n面内相对于所述第二法线矢量以角度β1倾斜，所述角度β1是0度以上且5度以下的范围， 在所述第一端面及所述第二端面均现出所述支承基体的端面及所述半导体区域的端面。 |
| 申请日期 | 2013-07-24 |
| 专利号 | CN104737394A |
| 专利状态 | 失效 |
| 申请号 | CN201380053924.1 |
| 公开（公告）号 | CN104737394A |
| IPC 分类号 | H01S5/343 | G01B11/26 | H01L21/301 | H01S5/02 |
| 专利代理人 | 权太白 | 谢丽娜 |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 |
| 文献类型 | 专利 |
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/65645 |
| 专题 | 半导体激光器专利数据库 |
| 作者单位 | 住友电气工业株式会社 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 高木慎平. III族氮化物半导体激光元件、制作III族氮化物半导体激光元件的方法、评价III族氮化物半导体激光元件的光谐振器用的端面的方法、评价刻划槽的方法. CN104737394A[P]. 2015-06-24. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| CN104737394A.PDF（4888KB） | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 | ||
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