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Manufacture of algainp semiconductor laser
其他题名Manufacture of algainp semiconductor laser
IKEDA MASAO
1986-07-05
专利权人ソニー株式会社
公开日期1986-07-05
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要PURPOSE:To obtain a stable semiconductor laser with good characteristics by a method wherein, before an irregular processing is performed, the luminescent mechanism part is formed of an organic metal of an AlGaInP semiconductor or by the metal vapor-phase growth method. CONSTITUTION:A buffer layer 22, a first clad layer 23, an active layer 24 and a second clad layer 25 are made to grow in order on the main surface of an n-type GaAs single crystal substrate 21, and further successively, a protective semiconductor layer 26 for the second clad layer 25 is made to grow on the second clad layer 25 and a current constricting layer 27 is made to grow there on. The buffer layer 22, the first clad layer 23 and the current constricting layer 27 have the same n-type conductive type as that of the substrate 21, and the second clad layer 25 and the protective semiconductor layer 26 for the second clad layer 25 have the p-type conductive type inverse to the n-type conductive of the substrate 2 An electrode 29 on one side is ohmically formed by adhesion on a cap layer 28 and an electrode 30 on the other side is ohmically formed by adhesion on the back surface of the substrate 2
其他摘要目的:通过一种方法获得具有良好特性的稳定半导体激光器,其中,在进行不规则处理之前,发光机构部分由AlGaInP半导体的有机金属或通过金属气相生长方法形成。组成:缓冲层22,第一覆层23,有源层24和第二覆层25在n型GaAs单晶衬底21的主表面上依次生长,并进一步依次保护使第二包层25的半导体层26在第二包层25上生长,并使电流限制层27在其上生长。缓冲层22,第一包层23和电流限制层27具有与基板21相同的n型导电类型,第二包层25和用于第二包层25的保护半导体层26具有与基板21的n型导电相反的p型导电类型。一侧上的电极29通过粘附在盖层28上而形成欧姆,而另一侧上的电极30通过背面上的粘附而欧姆形成。基板21的表面。
主权项-
申请日期1984-12-21
专利号JP1986147592A
专利状态失效
申请号JP1984270039
公开(公告)号JP1986147592A
IPC 分类号H01L21/205 | H01S5/00 | H01S3/18
专利代理人-
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/64211
专题半导体激光器专利数据库
作者单位ソニー株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
IKEDA MASAO. Manufacture of algainp semiconductor laser. JP1986147592A[P]. 1986-07-05.
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