Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
Manufacture of algainp semiconductor laser | |
其他题名 | Manufacture of algainp semiconductor laser |
IKEDA MASAO | |
1986-07-05 | |
专利权人 | ソニー株式会社 |
公开日期 | 1986-07-05 |
授权国家 | 日本 |
专利类型 | 发明申请 |
摘要 | PURPOSE:To obtain a stable semiconductor laser with good characteristics by a method wherein, before an irregular processing is performed, the luminescent mechanism part is formed of an organic metal of an AlGaInP semiconductor or by the metal vapor-phase growth method. CONSTITUTION:A buffer layer 22, a first clad layer 23, an active layer 24 and a second clad layer 25 are made to grow in order on the main surface of an n-type GaAs single crystal substrate 21, and further successively, a protective semiconductor layer 26 for the second clad layer 25 is made to grow on the second clad layer 25 and a current constricting layer 27 is made to grow there on. The buffer layer 22, the first clad layer 23 and the current constricting layer 27 have the same n-type conductive type as that of the substrate 21, and the second clad layer 25 and the protective semiconductor layer 26 for the second clad layer 25 have the p-type conductive type inverse to the n-type conductive of the substrate 2 An electrode 29 on one side is ohmically formed by adhesion on a cap layer 28 and an electrode 30 on the other side is ohmically formed by adhesion on the back surface of the substrate 2 |
其他摘要 | 目的:通过一种方法获得具有良好特性的稳定半导体激光器,其中,在进行不规则处理之前,发光机构部分由AlGaInP半导体的有机金属或通过金属气相生长方法形成。组成:缓冲层22,第一覆层23,有源层24和第二覆层25在n型GaAs单晶衬底21的主表面上依次生长,并进一步依次保护使第二包层25的半导体层26在第二包层25上生长,并使电流限制层27在其上生长。缓冲层22,第一包层23和电流限制层27具有与基板21相同的n型导电类型,第二包层25和用于第二包层25的保护半导体层26具有与基板21的n型导电相反的p型导电类型。一侧上的电极29通过粘附在盖层28上而形成欧姆,而另一侧上的电极30通过背面上的粘附而欧姆形成。基板21的表面。 |
主权项 | - |
申请日期 | 1984-12-21 |
专利号 | JP1986147592A |
专利状态 | 失效 |
申请号 | JP1984270039 |
公开(公告)号 | JP1986147592A |
IPC 分类号 | H01L21/205 | H01S5/00 | H01S3/18 |
专利代理人 | - |
代理机构 | - |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/64211 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | ソニー株式会社 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | IKEDA MASAO. Manufacture of algainp semiconductor laser. JP1986147592A[P]. 1986-07-05. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
JP1986147592A.PDF(340KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
个性服务 |
推荐该条目 |
保存到收藏夹 |
查看访问统计 |
导出为Endnote文件 |
谷歌学术 |
谷歌学术中相似的文章 |
[IKEDA MASAO]的文章 |
百度学术 |
百度学术中相似的文章 |
[IKEDA MASAO]的文章 |
必应学术 |
必应学术中相似的文章 |
[IKEDA MASAO]的文章 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论