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レーザ媒体、レーザ装置、レーザ加工機、表示装置及びレーザ媒体の製造方法
其他题名レーザ媒体、レーザ装置、レーザ加工機、表示装置及びレーザ媒体の製造方法
廣居 正樹; 布施 晃広
2016-01-07
专利权人株式会社リコー
公开日期2016-01-07
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要【課題】励起光の断面形状を補正できるレーザ媒体を提供する。 【解決手段】 レーザ媒体10は、励起光が入射される凹面を表面に有し、該凹面のY軸方向に関する曲率Ryは、X軸方向に関する曲率Rxよりも大きい。この場合、共振光の断面形状をX軸方向よりもY軸方向に関してより大きく補正でき(より円形に近づくように補正でき)、安定した発振や波面をきれいにすることができる。この結果、励起光の断面形状を補正できるレーザ媒体を提供できる。 【選択図】図1
其他摘要本发明提供一种能够校正激发光的横截面形状的激光介质。 解决方案:激光介质10具有凹入表面,激发光入射在凹入表面上,并且凹入表面在Y轴方向上的曲率Ry大于在X轴方向上的曲率Rx。在这种情况下,可以在Y轴方向上比在X轴方向上更大地校正共振光的截面形状(可以使校正更接近圆形),并且可以清洁稳定的振荡和波前。结果,可以提供能够校正激发光的横截面形状的激光介质。 [选图]图1
主权项-
申请日期2014-06-12
专利号JP2016001675A
专利状态授权
申请号JP2014121188
公开(公告)号JP2016001675A
IPC 分类号H01S5/14 | H01S3/06 | H01S3/00 | H01S3/16 | H01S5/343 | H01S5/183 | B23K26/06 | G03B21/00 | G03B21/14
专利代理人立石 篤司
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/61931
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社リコー
推荐引用方式
GB/T 7714
廣居 正樹,布施 晃広. レーザ媒体、レーザ装置、レーザ加工機、表示装置及びレーザ媒体の製造方法. JP2016001675A[P]. 2016-01-07.
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