Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
レーザ媒体、レーザ装置、レーザ加工機、表示装置及びレーザ媒体の製造方法 | |
其他题名 | レーザ媒体、レーザ装置、レーザ加工機、表示装置及びレーザ媒体の製造方法 |
廣居 正樹; 布施 晃広 | |
2016-01-07 | |
专利权人 | 株式会社リコー |
公开日期 | 2016-01-07 |
授权国家 | 日本 |
专利类型 | 发明申请 |
摘要 | 【課題】励起光の断面形状を補正できるレーザ媒体を提供する。 【解決手段】 レーザ媒体10は、励起光が入射される凹面を表面に有し、該凹面のY軸方向に関する曲率Ryは、X軸方向に関する曲率Rxよりも大きい。この場合、共振光の断面形状をX軸方向よりもY軸方向に関してより大きく補正でき(より円形に近づくように補正でき)、安定した発振や波面をきれいにすることができる。この結果、励起光の断面形状を補正できるレーザ媒体を提供できる。 【選択図】図1 |
其他摘要 | 本发明提供一种能够校正激发光的横截面形状的激光介质。 解决方案:激光介质10具有凹入表面,激发光入射在凹入表面上,并且凹入表面在Y轴方向上的曲率Ry大于在X轴方向上的曲率Rx。在这种情况下,可以在Y轴方向上比在X轴方向上更大地校正共振光的截面形状(可以使校正更接近圆形),并且可以清洁稳定的振荡和波前。结果,可以提供能够校正激发光的横截面形状的激光介质。 [选图]图1 |
主权项 | - |
申请日期 | 2014-06-12 |
专利号 | JP2016001675A |
专利状态 | 授权 |
申请号 | JP2014121188 |
公开(公告)号 | JP2016001675A |
IPC 分类号 | H01S5/14 | H01S3/06 | H01S3/00 | H01S3/16 | H01S5/343 | H01S5/183 | B23K26/06 | G03B21/00 | G03B21/14 |
专利代理人 | 立石 篤司 |
代理机构 | - |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/61931 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 株式会社リコー |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 廣居 正樹,布施 晃広. レーザ媒体、レーザ装置、レーザ加工機、表示装置及びレーザ媒体の製造方法. JP2016001675A[P]. 2016-01-07. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
JP2016001675A.PDF(530KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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