半導体レーザ装置、光ピックアップ装置および半導体レーザ装置の製造方法

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	半導体レーザ装置、光ピックアップ装置および半導体レーザ装置の製造方法
其他题名	半導体レーザ装置、光ピックアップ装置および半導体レーザ装置の製造方法
	村上晋三; 種谷元隆; 石黒敬英; 増井克栄; 福本悟; 堀口武
	2012-04-19
专利权人	SHARP CORP
公开日期	2012-04-19
授权国家	日本
专利类型	发明申请
摘要	【課題】 2波長以上の波長の異なる光源の出射光の光軸、強度分布、光路長を一致させることができる半導体レーザ装置、光ピックアップ装置および半導体レーザ装置の製造方法を提供する。【解決手段】回折領域で1次回折する光源2の回折光の回折角が、光源1の回折領域を透過する角度と同一となるように、点光源で、かつその光源位置が、光源1の透過光の発光点と一致するような回折素子の格子形状を構成し、光源2の光軸を傾けてその光強度分布中心が、回折素子を透過する光源1の光強度分布と一致するような配置とすることで、回折素子から出射される光源1と光源2の光出射角度、強度分布を一致させる。回折素子の位置は、反射された光源2の復路光が回折素子により回折されて、光源1に入射して発生する電流値に基づいて調整することにより、光源1と光源2の相対的な光軸、強度分布、合焦ずれ、収差を低減し、信号検出用受光素子の受光部を共用可能とする。【選択図】図1
其他摘要	要解决的问题：提供一种半导体激光装置，使得具有两种或更多种不同波长的光源的投射光束可以具有相同的光轴，相同的强度分布和相同的光程长度;光学拾取装置;散射：衍射元件的光栅形状使得点光源的光源位置在光源1的透射光的发光点处，以使衍射角相等光源2的衍射光在衍射区域中主要衍射到光源通过衍射区域的透射角度。一种布置，其中光源2的光轴倾斜使其光强度分布中心满足通过衍射光栅透射的光源1的光强度分布，以便均衡从衍射光栅发射的光源1和光源2的发光角度和强度分布。对彼此。基于通过衍射光栅衍射反射光源2的返回光而产生的电流值来调整衍射光栅的位置，并使返回光入射在光源1上以减小相对光轴，强度分布，聚焦偏差。以及光源1和光源2的像差，从而共享用于信号的光接收元件的光接收部分检测。
主权项	-
申请日期	2010-11-19
专利号	JP2012079393A
专利状态	失效
申请号	JP2010259583
公开（公告）号	JP2012079393A
IPC 分类号	G02B5/32 \| G11B7/125 \| H01S5/022 \| G11B7/135 \| G02B5/18
专利代理人	西教圭一郎
代理机构	-
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/61673
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	SHARP CORP
推荐引用方式 GB/T 7714	村上晋三,種谷元隆,石黒敬英,等. 半導体レーザ装置、光ピックアップ装置および半導体レーザ装置の製造方法. JP2012079393A[P]. 2012-04-19.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
JP2012079393A.PDF（154KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文