Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
半導体発光素子、発光装置、照明装置及び表示装置 | |
其他题名 | 半導体発光素子、発光装置、照明装置及び表示装置 |
山路 太平; 多賀谷 直大; 須田 修平 | |
2010-02-18 | |
专利权人 | SEIWA ELECTRIC MFG CO LTD |
公开日期 | 2010-02-18 |
授权国家 | 日本 |
专利类型 | 发明申请 |
摘要 | 【課題】従来よりも効率良く光を取り出すことができる半導体発光素子、発光装置、照明装置及び表示装置を提供する。 【解決手段】基板1表面には、アンドープGaN層2、n型半導体層3、活性層4、p型半導体層5がこの順に積層した半導体層30を形成してある。半導体層30の一部には、p型半導体層5及び活性層4をエッチングなどにより除去して露出したn型半導体層3の表面にオーミック電極9を形成してある。基板1上にボンディング電極(nパッド)7を形成してあり、ボンディング電極7は、オーミック電極9を覆うようにして延設され、オーミック電極9に接続してある。半導体層30の他の一部の側面には、半導体層30の外周側面を被覆する被覆膜11を形成してあり、被覆膜11が形成された半導体層30の近傍には、基板1上にボンディング電極(pパッド)8を形成してある。 【選択図】図2 |
其他摘要 | 本发明提供一种半导体发光器件,发光器件,照明器件和能够比传统方法更有效地提取光的显示器件。 在基板1的表面上形成半导体层30,在该半导体层30中依次层叠未掺杂的GaN层2,n型半导体层3,有源层4和p型半导体层5。通过在半导体层30的一部分上通过蚀刻等去除p型半导体层5和有源层4,在n型半导体层3的表面上形成欧姆电极9。在基板1上形成接合电极(n焊盘)7,并且接合电极7延伸以覆盖欧姆电极9并连接到欧姆电极9。用于覆盖半导体层30的外周侧表面的覆盖膜11形成在半导体层30的侧表面的另一部分上,并且基板1设置在其上形成有覆盖膜11的半导体层30附近。在顶部形成接合电极(p焊盘)8。 [选择图]图2 |
主权项 | - |
申请日期 | 2008-08-07 |
专利号 | JP2010040937A |
专利状态 | 失效 |
申请号 | JP2008204675 |
公开(公告)号 | JP2010040937A |
IPC 分类号 | F21Y101/02 | F21S2/00 | H01S5/042 | H01L33/36 |
专利代理人 | 河野 登夫 |
代理机构 | - |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/61518 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | SEIWA ELECTRIC MFG CO LTD |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 山路 太平,多賀谷 直大,須田 修平. 半導体発光素子、発光装置、照明装置及び表示装置. JP2010040937A[P]. 2010-02-18. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
JP2010040937A.PDF(208KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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