先進材料処理応用のためのピコ秒-ナノ秒パルス用高エネルギ光ファイバ増幅器

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	先進材料処理応用のためのピコ秒-ナノ秒パルス用高エネルギ光ファイバ増幅器
其他题名	先進材料処理応用のためのピコ秒-ナノ秒パルス用高エネルギ光ファイバ増幅器
	マーチンイーファーマン; イングマーハール; ジェナディイメシェフ; ラジェッシュエスパテル
	2010-12-16
专利权人	イムラアメリカインコーポレイテッド
公开日期	2010-12-16
授权国家	日本
专利类型	发明申请
摘要	【課題】高エネルギピコ秒、ナノ秒パルス用ファイバベース光源の構築を目的とする。【解決手段】ファイバ増幅器での非線形エネルギ制限を最小化することで、光ファイバの損傷閾値に近いパルスエネルギが発生され得る。少なくとも一つの非線形ファイバ増幅器を含む増幅器チェーンと共に最適化されたシード光源を実施することは、バンド幅制限近い高エネルギピコ秒パルスの発生を可能にする。高エネルギパルス化されるファイバ増幅器の最適化シード光源は、半導体レーザも伸長モードロックファイバレーザも含む。ファイバ増幅器から得られるパルスエネルギの最大化は、さらに高繰り返し周期で高エネルギ紫外、赤外パルスの発生を可能にする。【選択図】図1
其他摘要	要解决的问题：为高能皮秒和纳秒脉冲构建基于光纤的光源。 ŽSOLUTION：通过最小化光纤放大器中的非线性能量限制，可以产生接近光纤损伤阈值的脉冲能量。结合包括至少一个非线性光纤放大器的放大器链的优化种子源的实现允许产生接近带宽限制的高能皮秒脉冲。用于高能脉冲光纤放大器的优化种子源包括半导体激光器以及拉伸模式锁定光纤激光器。可从光纤放大器获得的脉冲能量的最大化进一步允许以高重复率产生高能紫外和IR脉冲。 Ž
主权项	-
申请日期	2010-09-17
专利号	JP2010283392A
专利状态	失效
申请号	JP2010209309
公开（公告）号	JP2010283392A
IPC 分类号	G02F1/35 \| H01S3/115 \| G02F1/39 \| H01S3/23 \| B23K26/40 \| H01S3/00 \| B23K26/06 \| B23K26/36 \| H01S3/06
专利代理人	岡部讓 \| 岡部正夫 \| 加藤伸晃 \| 朝日伸光 \| 三山勝巳
代理机构	-
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/58572
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	イムラアメリカインコーポレイテッド
推荐引用方式 GB/T 7714	マーチンイーファーマン,イングマーハール,ジェナディイメシェフ,等. 先進材料処理応用のためのピコ秒-ナノ秒パルス用高エネルギ光ファイバ増幅器. JP2010283392A[P]. 2010-12-16.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
JP2010283392A.PDF（134KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文