| 磁控溅射镀膜中工作气压对沉积速率的影响 | |
| 王璘; 余欧明; 杭凌侠; 赵保平; 王忠厚 | |
| 作者部门 | 光谱成像技术实验室 |
| 2004 | |
| 发表期刊 | 真空
 |
| ISSN | 1002—0322 |
| 卷号 | 41期号:1页码:9-12 |
| 学科领域 | 光学 |
| 文献类型 | 期刊论文 |
| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/5826 |
| 专题 | 光谱成像技术研究室 |
| 通讯作者 | 王璘 |
| 推荐引用方式 GB/T 7714 | 王璘,余欧明,杭凌侠,等. 磁控溅射镀膜中工作气压对沉积速率的影响[J]. 真空,2004,41(1):9-12. |
| APA | 王璘,余欧明,杭凌侠,赵保平,&王忠厚.(2004).磁控溅射镀膜中工作气压对沉积速率的影响.真空,41(1),9-12. |
| MLA | 王璘,et al."磁控溅射镀膜中工作气压对沉积速率的影响".真空 41.1(2004):9-12. |
| 条目包含的文件 | ||||||
| 文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
| 磁控溅射镀膜中工作气压对沉积速率的影响.（321KB） | 限制开放 | -- | 请求全文 | |||
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