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一种利用半导体激光器诱导聚酰亚胺表面碳化制备纳米高比表面积碳颗粒的方法
其他题名一种利用半导体激光器诱导聚酰亚胺表面碳化制备纳米高比表面积碳颗粒的方法
吴盾; 刘春林; 成俊峰; 王强; 曹峥; 梁红伟
2018-11-16
专利权人常州大学
公开日期2018-11-16
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明涉及一种利用半导体激光器诱导聚酰亚胺表面碳化制备纳米高比表面积碳颗粒的方法。该制备方法是以聚酰亚胺为原料,通过半导体激光器对其表面进行诱导扫描处理,从而制得纳米高比表面积碳颗粒材料。本发明工艺简单,反应条件温和,所采用的原料廉价易得,所制备的纳米多孔碳颗粒材料具有比表面积大、石墨化程度高、氧含量少等特点,是一种有望应用于吸附、催化、导电、导热等领域的新型材料。
其他摘要本发明涉及一种利用半导体激光器诱导聚酰亚胺表面碳化制备纳米高比表面积碳颗粒的方法。该制备方法是以聚酰亚胺为原料,通过半导体激光器对其表面进行诱导扫描处理,从而制得纳米高比表面积碳颗粒材料。本发明工艺简单,反应条件温和,所采用的原料廉价易得,所制备的纳米多孔碳颗粒材料具有比表面积大、石墨化程度高、氧含量少等特点,是一种有望应用于吸附、催化、导电、导热等领域的新型材料。
主权项一种利用半导体激光器诱导聚酰亚胺表面碳化制备纳米高比表面积碳颗粒的方法;其特征在于:所述方法具体制备步骤为: 1)先将添加阻燃剂的聚酰亚胺制备成具有表面平整结构的膜或板材;用水或乙醇清洗,除去污染物,然后干燥; 2)直接使用半导体激光器激光对材料表面进行辐照扫描,在聚酰亚胺上完成激光诱导碳化制备纳米多孔碳颗粒。
申请日期2018-07-10
专利号CN108821262A
专利状态申请中
申请号CN201810748206.0
公开(公告)号CN108821262A
IPC 分类号C01B32/15 | B82Y30/00 | B82Y40/00
专利代理人-
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/57127
专题半导体激光器专利数据库
作者单位常州大学
推荐引用方式
GB/T 7714
吴盾,刘春林,成俊峰,等. 一种利用半导体激光器诱导聚酰亚胺表面碳化制备纳米高比表面积碳颗粒的方法. CN108821262A[P]. 2018-11-16.
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