激光源，特别是用于工业过程的激光源

OPT OpenIR > 半导体激光器专利数据库

	激光源，特别是用于工业过程的激光源
其他题名	激光源，特别是用于工业过程的激光源
	N.马格纳诺; M.加特提格里奥; A.布拉格里亚
	2018-11-09
专利权人	康茂股份公司
公开日期	2018-11-09
授权国家	中国
专利类型	发明申请
摘要	一种激光源，包括激光射束生成单元(2)，该激光射束生成单元(2)包括用于生成具有不同波长的激光射束的多个激光二极管(201、202)。由所述二极管(201、202)所发射的激光射束在光切换和寻址单元(4)的入口(40)处来接收。这个单元(4)具有光选择器装置(43)，该光选择器装置(43)具有两个操作位置。当处于第一位置，由所述二极管(201、202)所发射的激光射束到达光放大单元(6)的入口，该光放大单元(6)包括多个放大器模块(60)，该放大器模块(60)配置成发射与由所述二极管(201、202)所发射的激光射束相比具有更高射束质量和更低功率值的激光射束。放大器模块(60)的出口朝向激光源的出口(U2)会聚。当处于光切换和寻址单元(4)的第二位置，使由所述二极管(201、202)所发射的激光射束在至少部分重叠的条件下彼此会聚到单激光射束中，以用于在所述激光源(1)的另一出口(U1)处的具有相对更高功率和相对更低质量的激光射束的发射。
其他摘要	一种激光源，包括激光射束生成单元(2)，该激光射束生成单元(2)包括用于生成具有不同波长的激光射束的多个激光二极管(201、202)。由所述二极管(201、202)所发射的激光射束在光切换和寻址单元(4)的入口(40)处来接收。这个单元(4)具有光选择器装置(43)，该光选择器装置(43)具有两个操作位置。当处于第一位置，由所述二极管(201、202)所发射的激光射束到达光放大单元(6)的入口，该光放大单元(6)包括多个放大器模块(60)，该放大器模块(60)配置成发射与由所述二极管(201、202)所发射的激光射束相比具有更高射束质量和更低功率值的激光射束。放大器模块(60)的出口朝向激光源的出口(U2)会聚。当处于光切换和寻址单元(4)的第二位置，使由所述二极管(201、202)所发射的激光射束在至少部分重叠的条件下彼此会聚到单激光射束中，以用于在所述激光源(1)的另一出口(U1)处的具有相对更高功率和相对更低质量的激光射束的发射。
主权项	一种激光源，特别是供工业过程中使用的激光源，包括： -激光射束生成单元(2)，包括用于生成多个激光射束的多个激光二极管(201、202)， -光放大单元(6)，包括多个放大器模块(60)，所述放大器模块(60)配置成采用由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束来泵送，并且发射相对由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束具有更高射束质量和更低功率值的激光射束，以及 -激光射束切换和寻址光单元(4)，插入在所述生成单元(2)与所述光放大单元(6)之间，以用于对由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束进行切换和寻址，所述光切换和寻址单元(4)包括： -多个入口(40)，用于接收由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束， -第一光线路(44)，用于朝向所述激光源(1)的第一出口(U1)转发从由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束所得到的单激光射束， -多个第二光线路(45)，用于朝向所述光放大单元(6)的所述放大模块(60)转发由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束，所述放大器模块(60)具有连接到光线路(64)的相应出口，所述光线路(64)全部朝向所述激光源(1)的第二出口(U2)会聚，以及 -光路选择器装置(43)，用于有选择地朝向以下各项定向由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束： -所述第一光线路(44)，以便在所述激光源(1)的所述第一出口(U1)处生成具有相对更高功率和相对更低质量的单激光射束的发射，或者朝向 -所述第二光线路(45)，并且经过所述放大器模块(60)，一直到所述激光源(1)的所述第二出口(U2)，以便在所述激光源(1)的所述第二出口(U2)处生成具有相对更低功率和相对更高质量的单激光射束的发射，其中所述二极管(201、202)还配置成发射彼此具有不同波长的激光射束，以及其中所述选择器装置(43)具有第一操作位置和第二操作位置，当处于所述第一操作位置，所述选择器装置(43)朝向所述第二光线路(45)转发由所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束，当处于所述第二操作位置，在其中由所述二极管所发射的所述射束彼此至少部分重叠的条件下，使从所述二极管(201、202)所发射的所述激光射束会聚到单射束中。
申请日期	2017-03-13
专利号	CN108780975A
专利状态	申请中
申请号	CN201780017636.9
公开（公告）号	CN108780975A
IPC 分类号	H01S3/00 \| H01S3/094 \| H01S3/067 \| H01S3/23 \| G02B27/14 \| H01S3/0941
专利代理人	陈岚
代理机构	中国专利代理(香港)有限公司
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/57106
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	康茂股份公司
推荐引用方式 GB/T 7714	N.马格纳诺,M.加特提格里奥,A.布拉格里亚. 激光源，特别是用于工业过程的激光源. CN108780975A[P]. 2018-11-09.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN108780975A.PDF（1259KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文