一种控制制冷装置结露的方法、装置及系统

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	一种控制制冷装置结露的方法、装置及系统
其他题名	一种控制制冷装置结露的方法、装置及系统
	高文宏; 郭泽彬; 赵鹏飞; 郭金榜; 李孟; 王锦伟; 侯茜
	2018-02-09
专利权人	北京镭创高科光电科技有限公司
公开日期	2018-02-09
授权国家	中国
专利类型	发明申请
摘要	本发明公开了一种控制制冷装置结露的方法，应用于半导体激光器的制冷装置，包括：实时获取制冷装置的工作环境中的温度和湿度；根据所述温度和所述湿度，确定所述制冷装置当前时刻工作环境的露点温度；判断所述露点温度是否大于预设温度阈值，如果是，则控制所述制冷装置的制冷温度为预设制冷温度。本发明中通过监测工作环境中的温度和湿度确定出工作环境中的露点温度，并根据露点温度对制冷温度进行调节，从而减小制冷装置对工作环境温度的影响，进而降低结露发生的可能性，且无需对制冷装置包裹保温材料，便于设备维修与安装。本发明还公开一种控制制冷装置结露的装置及系统。
其他摘要	本发明公开了一种控制制冷装置结露的方法，应用于半导体激光器的制冷装置，包括：实时获取制冷装置的工作环境中的温度和湿度；根据所述温度和所述湿度，确定所述制冷装置当前时刻工作环境的露点温度；判断所述露点温度是否大于预设温度阈值，如果是，则控制所述制冷装置的制冷温度为预设制冷温度。本发明中通过监测工作环境中的温度和湿度确定出工作环境中的露点温度，并根据露点温度对制冷温度进行调节，从而减小制冷装置对工作环境温度的影响，进而降低结露发生的可能性，且无需对制冷装置包裹保温材料，便于设备维修与安装。本发明还公开一种控制制冷装置结露的装置及系统。
主权项	一种控制制冷装置结露的方法，应用于半导体激光器的制冷装置，其特征在于，包括：实时获取制冷装置的工作环境中的温度和湿度；根据所述温度和所述湿度，确定所述制冷装置当前时刻工作环境的露点温度；判断所述露点温度是否大于预设温度阈值，如果是，则控制所述制冷装置的制冷温度为预设制冷温度。
申请日期	2017-11-13
专利号	CN107678458A
专利状态	申请中
申请号	CN201711116299.7
公开（公告）号	CN107678458A
IPC 分类号	G05D23/20 \| H01S5/024
专利代理人	罗满
代理机构	北京集佳知识产权代理有限公司
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/56631
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	北京镭创高科光电科技有限公司
推荐引用方式 GB/T 7714	高文宏,郭泽彬,赵鹏飞,等. 一种控制制冷装置结露的方法、装置及系统. CN107678458A[P]. 2018-02-09.

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CN107678458A.PDF（682KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文