OPT OpenIR  > 光电子学研究室
LP-MOCVD growth and characterisation of InAsSb ternary
Li XT(李晓婷); Li XT(李晓婷)
作者部门光电子学研究室
2005
发表期刊Chinese Journal of Semiconductors
ISSN0253-4177
卷号26期号:12页码:45-49
产权排序1
学科领域半导体技术
收录类别中文核心
语种英语
文献类型期刊论文
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/5652
专题光电子学研究室
通讯作者Li XT(李晓婷)
推荐引用方式
GB/T 7714
Li XT,Li XT. LP-MOCVD growth and characterisation of InAsSb ternary[J]. Chinese Journal of Semiconductors,2005,26(12):45-49.
APA Li XT,&李晓婷.(2005).LP-MOCVD growth and characterisation of InAsSb ternary.Chinese Journal of Semiconductors,26(12),45-49.
MLA Li XT,et al."LP-MOCVD growth and characterisation of InAsSb ternary".Chinese Journal of Semiconductors 26.12(2005):45-49.
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