LP-MOCVD growth and characterisation of InAsSb ternary | |
Li XT(李晓婷); Li XT(李晓婷) | |
作者部门 | 光电子学研究室 |
2005 | |
发表期刊 | Chinese Journal of Semiconductors
![]() |
ISSN | 0253-4177 |
卷号 | 26期号:12页码:45-49 |
产权排序 | 1 |
学科领域 | 半导体技术 |
收录类别 | 中文核心 |
语种 | 英语 |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/5652 |
专题 | 光电子学研究室 |
通讯作者 | Li XT(李晓婷) |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Li XT,Li XT. LP-MOCVD growth and characterisation of InAsSb ternary[J]. Chinese Journal of Semiconductors,2005,26(12):45-49. |
APA | Li XT,&李晓婷.(2005).LP-MOCVD growth and characterisation of InAsSb ternary.Chinese Journal of Semiconductors,26(12),45-49. |
MLA | Li XT,et al."LP-MOCVD growth and characterisation of InAsSb ternary".Chinese Journal of Semiconductors 26.12(2005):45-49. |
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