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雷射模組
其他题名雷射模組
藏町照彥; 山中英生; 永野和彥
2005-05-16
专利权人亚得科技工程有限公司
公开日期2005-05-16
授权国家中国台湾
专利类型发明申请
摘要〔課題〕一種將振盪波長為350~450nm範圍之半導體雷射元件配置於密閉容器內所成的雷射模組,藉由抑制密閉容器內有機揮發氣體產生而達成高壽命化。〔解決手段〕一種將振盪波長為350~450nm範圍之半導體雷射元件LD7配置於密閉容器40、41內所成的雷射模組,係使用150℃下GC-MASS評估之有機揮發氣體發生量為10μg/g者來做為配置於密閉容器內之光學零件,另外使用150℃下GC-MASS評估之有機氣體發生量為100μg/g以下者來做為固定光學零件(例如準直透鏡17)之有機黏合劑。 -p0bmp
其他摘要〔課題〕一種將振盪波長為350~450nm範圍之半導體雷射元件配置於密閉容器內所成的雷射模組,藉由抑制密閉容器內有機揮發氣體產生而達成高壽命化。〔解決手段〕一種將振盪波長為350~450nm範圍之半導體雷射元件LD7配置於密閉容器40、41內所成的雷射模組,係使用150℃下GC-MASS評估之有機揮發氣體發生量為10μg/g者來做為配置於密閉容器內之光學零件,另外使用150℃下GC-MASS評估之有機氣體發生量為100μg/g以下者來做為固定光學零件(例如準直透鏡17)之有機黏合劑。 -p0bmp
主权项-
申请日期2004-10-01
专利号TW200516817A
专利状态授权
申请号TW093129761
公开(公告)号TW200516817A
IPC 分类号H01S5/10 | G02B6/42 | C09J11/04 | C09J11/06 | C09J163/00 | C09J171/02 | C09J201/00 | H01S3/10 | H01S5/00 | H01S5/02 | H01S5/022 | H01S5/024 | H01S5/40
专利代理人何金塗 | 何秋遠
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/56380
专题半导体激光器专利数据库
作者单位亚得科技工程有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
藏町照彥,山中英生,永野和彥. 雷射模組. TW200516817A[P]. 2005-05-16.
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