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含有衍生自乙烯基醚化合物的结构单元的化合物
其他题名含有衍生自乙烯基醚化合物的结构单元的化合物
盐田大; 野田国宏; 千坂博树
2015-11-18
专利权人东京应化工业株式会社
公开日期2015-11-18
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要提供新型含有衍生自乙烯基醚化合物的结构单元的化合物、其制造方法、含有上述化合物的组合物、包含上述组合物的光学元件密封剂、用上述密封剂密封的光学元件、以及将作为聚合物的上述化合物成形而成的成形体。本发明所涉及的化合物含有式(1)所示结构单元。式中,环Z1、Z2、Y1和Y2是芳香族烃环,X1和X2是单键或-S-基团,R是单键或特定的二价基团,R1a和R1b是单键或碳原子数1~4的亚烷基,R2a和R2b是一价烃基等特定取代基,R3a和R3b是氰基、卤素原子或一价烃基,m1和m2是0以上的整数,n1和n2是0~4的整数,V1是式(a1)~(a3)所示基团,V2是式(a1)~(a4)所示基团。式(a1)~(a4)中,*是键合端、**和***是与氧原子的键合端。
其他摘要提供新型含有衍生自乙烯基醚化合物的结构单元的化合物、其制造方法、含有上述化合物的组合物、包含上述组合物的光学元件密封剂、用上述密封剂密封的光学元件、以及将作为聚合物的上述化合物成形而成的成形体。本发明所涉及的化合物含有式(1)所示结构单元。式中,环Z1、Z2、Y1和Y2是芳香族烃环,X1和X2是单键或-S-基团,R是单键或特定的二价基团,R1a和R1b是单键或碳原子数1~4的亚烷基,R2a和R2b是一价烃基等特定取代基,R3a和R3b是氰基、卤素原子或一价烃基,m1和m2是0以上的整数,n1和n2是0~4的整数,V1是式(a1)~(a3)所示基团,V2是式(a1)~(a4)所示基团。式(a1)~(a4)中,*是键合端、**和***是与氧原子的键合端。
主权项一种含有下述通式(1)所示结构单元的化合物, 式中,环Z1和环Z2表示相同或不同的芳香族烃环;环Y1和环Y2表示相同或不同的芳香族烃环;X1和X2独立地表示单键或以-S-表示的基团;R表示单键、可具有取代基的亚甲基、可具有取代基且两个碳原子间可含有杂原子的亚乙基、以-O-表示的基团、以-NH-表示的基团或以-S-表示的基团;R1a和R1b独立地表示单键或碳原子数1~4的亚烷基;R2a和R2b独立地表示一价烃基、羟基、以-OR4a表示的基团、以-SR4b表示的基团、酰基、烷氧基羰基、卤素原子、硝基、氰基、巯基、羧基、氨基、氨甲酰基、以-NHR4c表示的基团、以-N(R4d)2表示的基团、(甲基)丙烯酰氧基、磺基,或者与在一价烃基、以-OR4a表示的基团、以-SR4b表示的基团、酰基、烷氧基羰基、以-NHR4c表示的基团、或以-N(R4d)2表示的基团中含有的碳原子相键合的氢原子的至少一部分被一价烃基、羟基、以-OR4a表示的基团、以-SR4b表示的基团、酰基、烷氧基羰基、卤素原子、硝基、氰基、巯基、羧基、氨基、氨甲酰基、以-NHR4c表示的基团、以-N(R4d)2表示的基团、(甲基)丙烯酰氧基、甲磺酰氧基、或磺基所取代而成的基团;R3a和R3b独立地表示氰基、卤素原子或一价烃基;R4a~R4d独立地表示一价烃基;m1和m2独立地表示0以上的整数;n1和n2独立地表示0~4的整数;V1表示下述式(a1)~(a3)中任意一个所示基团;V2表示下述式(a1)~(a4)中任意一个所示基团; 所述式(a1)~(a4)中,*、**和***表示键合端,其中,**表示所述通式(1)中V1或V2与直接连接的氧原子的键合端,***表示所述通式(1)中V2与直接连接的氧原子的键合端。
申请日期2014-03-28
专利号CN105073699A
专利状态授权
申请号CN201480018794.2
公开(公告)号CN105073699A
IPC 分类号C07C43/21 | C07C41/06 | C07D311/82 | C07D335/12 | C08F16/32 | C08G65/40 | H01L31/02 | H01L31/048 | H01L33/56 | C07B61/00
专利代理人葛凡
代理机构中科专利商标代理有限责任公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/55989
专题半导体激光器专利数据库
作者单位东京应化工业株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
盐田大,野田国宏,千坂博树. 含有衍生自乙烯基醚化合物的结构单元的化合物. CN105073699A[P]. 2015-11-18.
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