Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
一种分布布拉格反射镜的制备方法及垂直腔面发射激光器 | |
其他题名 | 一种分布布拉格反射镜的制备方法及垂直腔面发射激光器 |
赵勇明; 杨国文![]() | |
2019-08-23 | |
专利权人 | 度亘激光技术(苏州)有限公司 |
公开日期 | 2019-08-23 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 发明申请 |
摘要 | 本发明涉及半导体激光器技术领域,具体公开一种分布布拉格反射镜的制备方法及垂直腔面发射激光器,其中,方法包括:衬底;依次在所述衬底上交替生长分布布拉格反射镜的第一折射率层以及第二折射率层;其中,所述衬底的晶格常数位于所述第一折射率层的晶格常数与所述第二折射率层的晶格常数之间。本发明通过采用晶格常数位于第一折射率层与第二折射率层的晶格常数之间的衬底,使得生长在衬底上的第一折射率层以及第二折射率层的应力相互抵消,即采用应变补偿的方式消除因晶格失配产生的应力,实现无应变分布布拉格反射镜的生长,避免外延片出现翘曲的问题。 |
其他摘要 | 本发明涉及半导体激光器技术领域,具体公开一种分布布拉格反射镜的制备方法及垂直腔面发射激光器,其中,方法包括:衬底;依次在所述衬底上交替生长分布布拉格反射镜的第一折射率层以及第二折射率层;其中,所述衬底的晶格常数位于所述第一折射率层的晶格常数与所述第二折射率层的晶格常数之间。本发明通过采用晶格常数位于第一折射率层与第二折射率层的晶格常数之间的衬底,使得生长在衬底上的第一折射率层以及第二折射率层的应力相互抵消,即采用应变补偿的方式消除因晶格失配产生的应力,实现无应变分布布拉格反射镜的生长,避免外延片出现翘曲的问题。 |
主权项 | 一种分布布拉格反射镜的制备方法,其特征在于,包括: 提供衬底; 依次在所述衬底上交替生长第一折射率层以及第二折射率层;其中,所述衬底的晶格常数位于所述第一折射率层的晶格常数与所述第二折射率层的晶格常数之间。 |
申请日期 | 2019-05-31 |
专利号 | CN110165550A |
专利状态 | 申请中 |
申请号 | CN201910471847.0 |
公开(公告)号 | CN110165550A |
IPC 分类号 | H01S5/183 | H01S5/187 |
专利代理人 | 张琳琳 |
代理机构 | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/55469 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 度亘激光技术(苏州)有限公司 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 赵勇明,杨国文,张艳春,等. 一种分布布拉格反射镜的制备方法及垂直腔面发射激光器. CN110165550A[P]. 2019-08-23. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
CN110165550A.PDF(444KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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