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一种应用于3D成像的VCSEL阵列、激光投影装置及3D成像设备
其他题名一种应用于3D成像的VCSEL阵列、激光投影装置及3D成像设备
徐化勇
2019-05-14
专利权人江西瑞坤科技发展有限公司
公开日期2019-05-14
授权国家中国
专利类型发明申请
摘要本发明公开了一种应用于3D成像的VCSEL阵列、激光投影装置及3D成像设备,其中,3D成像的VCSEL阵列包括半导体衬底和VCSEL阵列光源,VCSEL阵列光源是以二维阵列的形式分布在半导体衬底表面,其中,二维阵列的排布方式是准晶排列,具有五次旋转对称性,激光投影装置,其特征在于,包括VCSEL阵列光源;至少一个透镜,斑点图案生成器;3D成像设备,包括的激光投影装置,用于向空间中发射结构光图案光束;图像采集装置,用于采集由结构光图案光束照射在目标物体上所形成的结构光图像;处理器,接收结构光图像并根据三角法原理计算出目标物体的深度图像。本发明具有极高的不相关性,相对于常规的随机排布光源,具有高的可参考性和可移植性。
其他摘要本发明公开了一种应用于3D成像的VCSEL阵列、激光投影装置及3D成像设备,其中,3D成像的VCSEL阵列包括半导体衬底和VCSEL阵列光源,VCSEL阵列光源是以二维阵列的形式分布在半导体衬底表面,其中,二维阵列的排布方式是准晶排列,具有五次旋转对称性,激光投影装置,其特征在于,包括VCSEL阵列光源;至少一个透镜,斑点图案生成器;3D成像设备,包括的激光投影装置,用于向空间中发射结构光图案光束;图像采集装置,用于采集由结构光图案光束照射在目标物体上所形成的结构光图像;处理器,接收结构光图像并根据三角法原理计算出目标物体的深度图像。本发明具有极高的不相关性,相对于常规的随机排布光源,具有高的可参考性和可移植性。
主权项一种应用于3D成像的VCSEL阵列,其特征在于:包括半导体衬底和VCSEL阵列光源,所述所述VCSEL阵列光源是以二维阵列的形式分布在所述半导体衬底表面,其中,所述二维阵列的排布方式是准晶排列,具有五次旋转对称性。
申请日期2018-12-27
专利号CN109755861A
专利状态申请中
申请号CN201811609697.7
公开(公告)号CN109755861A
IPC 分类号H01S5/42 | G03B21/20
专利代理人刘凌峰
代理机构南昌洪达专利事务所
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/55233
专题半导体激光器专利数据库
作者单位江西瑞坤科技发展有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
徐化勇. 一种应用于3D成像的VCSEL阵列、激光投影装置及3D成像设备. CN109755861A[P]. 2019-05-14.
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CN109755861A.PDF(624KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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