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半導体レーザ素子の製造方法および半導体レーザ素子
其他题名半導体レーザ素子の製造方法および半導体レーザ素子
畑 雅幸; 久納 康光; 別所 靖之
2008-10-16
专利权人SANYO ELECTRIC CO LTD
公开日期2008-10-16
授权国家日本
专利类型发明申请
摘要【課題】半導体レーザ素子部の幅を小さくする場合にも、半導体レーザ素子の取り扱い(ハンドリング)が困難になるのを抑制することが可能な半導体レーザ素子の製造方法を提供する。 【解決手段】この半導体レーザ素子の製造方法では、GaN基板50上に、共振器の延びる方向と交差するD方向に所定の間隔を隔てて複数の半導体レーザ素子部80を形成する工程と、複数の半導体レーザ素子部80のうちの一部を、支持基板31に接合する工程と、支持基板31を、共振器の延びるC方向に分割する工程とを備えている。 【選択図】図21
其他摘要要解决的问题:提供一种制造半导体激光元件的方法,即使在要减小半导体激光元件的宽度时,也可以抑制半导体激光元件的处理变得困难。解决方案:制造半导体激光器元件的方法包括在GaN衬底50上以与谐振器的延伸方向交叉的方向D上的预定间隔制造多个半导体激光器元件80的步骤,用于键合a的步骤多个半导体激光元件80的一部分到支撑基板31,以及用于在谐振器的延伸方向C上分割支撑基板31的步骤。Ž
主权项-
申请日期2008-02-12
专利号JP2008252069A
专利状态失效
申请号JP2008030808
公开(公告)号JP2008252069A
IPC 分类号H01S5/022 | H01S5/40 | H01S5/00
专利代理人宮園 博一
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/51617
专题半导体激光器专利数据库
作者单位SANYO ELECTRIC CO LTD
推荐引用方式
GB/T 7714
畑 雅幸,久納 康光,別所 靖之. 半導体レーザ素子の製造方法および半導体レーザ素子. JP2008252069A[P]. 2008-10-16.
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