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半导体层叠板和垂直腔面发射激光器
其他题名半导体层叠板和垂直腔面发射激光器
原敬
2015-09-02
专利权人株式会社理光
公开日期2015-09-02
授权国家中国
专利类型授权发明
摘要一种半导体层叠板包括半导体分布布拉格反射镜(DBR)形成于基底上的半导体分布布拉格反射镜(DBR)、通过交替层叠宽能带半导体层和有源层形成于半导体DBR上的谐振器层。每一个有源层都包含一个多量子阱(MQW)层和形成于为在多量子阱层的每一个表面上各有一个的两个分隔层。多量子阱层通过交替层叠阻挡层和量子阱层形成。形成n层宽能带半导体层,且从基底数第m层宽能带半导体层的能隙Egm,和从基底数第m-1层宽能带半导体层的能隙Egm-1,满足Egm-1<Egm,其中n和m均为大于等于2的整数,且1<m≤n。
其他摘要一种半导体层叠板包括半导体分布布拉格反射镜(DBR)形成于基底上的半导体分布布拉格反射镜(DBR)、通过交替层叠宽能带半导体层和有源层形成于半导体DBR上的谐振器层。每一个有源层都包含一个多量子阱(MQW)层和形成于为在多量子阱层的每一个表面上各有一个的两个分隔层。多量子阱层通过交替层叠阻挡层和量子阱层形成。形成n层宽能带半导体层,且从基底数第m层宽能带半导体层的能隙Egm,和从基底数第m-1层宽能带半导体层的能隙Egm-1,满足Egm-1<Egm,其中n和m均为大于等于2的整数,且1<m≤n。
申请日期2013-03-13
专利号CN103311805B
专利状态授权
申请号CN201310187942.0
公开(公告)号CN103311805B
IPC 分类号H01S5/183 | H01S5/343
专利代理人张祥
代理机构北京市柳沈律师事务所
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/50267
专题半导体激光器专利数据库
作者单位株式会社理光
推荐引用方式
GB/T 7714
原敬. 半导体层叠板和垂直腔面发射激光器. CN103311805B[P]. 2015-09-02.
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