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一维聚焦光学系统和气体中悬浮颗粒物的检测装置
其他题名一维聚焦光学系统和气体中悬浮颗粒物的检测装置
邱欣周; 刘国宁; 郝鹏飞; 张琼晋
2015-04-22
专利权人比亚迪股份有限公司
公开日期2015-04-22
授权国家中国
专利类型实用新型
摘要本实用新型公开了一种一维聚焦光学系统和一种气体中悬浮颗粒物的检测装置,其中,所述系统包括:半导体激光源,半导体激光源用于发射激光束;以及与半导体激光源同轴设置的光学透镜,光学透镜用于将激光束导向至光敏区,其中,光学透镜具有光源面和出光面,光源面为旋转轴对称凸非球面,出光面为凸非球面柱面。本实用新型的一维聚焦光学系统,使得光敏区的光强分布趋于均匀,采用单个透镜实现半导体激光束的一维聚焦,减少了光学元件的数量,降低了成本,且在光学系统小型化的基础上增长光学透镜的后焦距,从而具有在纵向较长的光敏区,使得光学系统具有较好的装配允差。
其他摘要本实用新型公开了一种一维聚焦光学系统和一种气体中悬浮颗粒物的检测装置,其中,所述系统包括:半导体激光源,半导体激光源用于发射激光束;以及与半导体激光源同轴设置的光学透镜,光学透镜用于将激光束导向至光敏区,其中,光学透镜具有光源面和出光面,光源面为旋转轴对称凸非球面,出光面为凸非球面柱面。本实用新型的一维聚焦光学系统,使得光敏区的光强分布趋于均匀,采用单个透镜实现半导体激光束的一维聚焦,减少了光学元件的数量,降低了成本,且在光学系统小型化的基础上增长光学透镜的后焦距,从而具有在纵向较长的光敏区,使得光学系统具有较好的装配允差。
申请日期2014-11-25
专利号CN204287526U
专利状态授权
申请号CN201420719292.X
公开(公告)号CN204287526U
IPC 分类号G02B3/06 | G02B3/02 | G02B19/00
专利代理人张大威
代理机构北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/50087
专题半导体激光器专利数据库
作者单位比亚迪股份有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
邱欣周,刘国宁,郝鹏飞,等. 一维聚焦光学系统和气体中悬浮颗粒物的检测装置. CN204287526U[P]. 2015-04-22.
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