OPT OpenIR  > 半导体激光器专利数据库
GaN基激光器及其制备方法
其他题名GaN基激光器及其制备方法
赵德刚; 梁锋
2019-08-20
专利权人中国科学院半导体研究所
公开日期2019-08-20
授权国家中国
专利类型授权发明
摘要本发明提供了一种氮化镓基激光器的制备方法,其包括以下步骤:S1:在氮化镓衬底上依次生长n型限制层、下波导层、量子阱有源区、复合上波导层、p型电子阻挡层、p型限制层、p型欧姆接触层;S2:将p型欧姆接触层、p型限制层、p型电子阻挡层和复合上波导层刻蚀成激光器脊型;S3:在制作成的脊型上生长一层氧化膜,并采用光刻的方法制作p型欧姆电极;S4:将氮化镓衬底减薄、清洗,并在上面制作n型欧姆接触电极;S5:进行解理、镀膜,然后封装在管壳上,制成一种具有复合上波导层的氮化镓基激光器,完成制备。本发明还提供了一种氮化镓基激光器。本发明可以提高电子阻挡层的有效势垒,提高光功率和斜率效率。
其他摘要本发明提供了一种氮化镓基激光器的制备方法,其包括以下步骤:S1:在氮化镓衬底上依次生长n型限制层、下波导层、量子阱有源区、复合上波导层、p型电子阻挡层、p型限制层、p型欧姆接触层;S2:将p型欧姆接触层、p型限制层、p型电子阻挡层和复合上波导层刻蚀成激光器脊型;S3:在制作成的脊型上生长一层氧化膜,并采用光刻的方法制作p型欧姆电极;S4:将氮化镓衬底减薄、清洗,并在上面制作n型欧姆接触电极;S5:进行解理、镀膜,然后封装在管壳上,制成一种具有复合上波导层的氮化镓基激光器,完成制备。本发明还提供了一种氮化镓基激光器。本发明可以提高电子阻挡层的有效势垒,提高光功率和斜率效率。
申请日期2017-07-11
专利号CN107204567B
专利状态授权
申请号CN201710559781
公开(公告)号CN107204567B
IPC 分类号H01S5/343
专利代理人任岩
代理机构中科专利商标代理有限责任公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/49460
专题半导体激光器专利数据库
作者单位中国科学院半导体研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
赵德刚,梁锋. GaN基激光器及其制备方法. CN107204567B[P]. 2019-08-20.
条目包含的文件
文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
CN107204567B.PDF(558KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
个性服务
推荐该条目
保存到收藏夹
查看访问统计
导出为Endnote文件
谷歌学术
谷歌学术中相似的文章
[赵德刚]的文章
[梁锋]的文章
百度学术
百度学术中相似的文章
[赵德刚]的文章
[梁锋]的文章
必应学术
必应学术中相似的文章
[赵德刚]的文章
[梁锋]的文章
相关权益政策
暂无数据
收藏/分享
所有评论 (0)
暂无评论
 

除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。