一种以金属玻璃为光刻胶的光刻方法及系统

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	一种以金属玻璃为光刻胶的光刻方法及系统
其他题名	一种以金属玻璃为光刻胶的光刻方法及系统
	缪向水; 曾笔鉴; 李震; 黄君竹
	2015-01-28
专利权人	华中科技大学
公开日期	2015-01-28
授权国家	中国
专利类型	授权发明
摘要	本发明公开了一种以金属玻璃为光刻胶的光刻方法，具体为：在衬底表面沉积金属玻璃材料光刻胶层，按照目标纳米图案对沉积得到的样品进行曝光，曝光部分达到晶化温度发生相变，产生纳米晶化图形；对曝光后带有纳米晶化图形的样品进行刻蚀形成所需的纳米图案。本发明利用金属玻璃材料替代有机光刻胶，能够得到的样品光刻线宽远小于激光聚焦光斑衍射极限，并且成本低，刻蚀选择比大。本发明还公开了实现上述方法的系统，主要包括计算机、任意波形发生器、半导体激光器、准直扩束镜、光束隔离器、分光镜、聚焦伺服机构、聚焦镜头、X-Y-θ三维位移台和聚焦伺服控制箱。该系统构成简单、性价比高、操作简单、对操作环境要求相对宽松，产出率高。
其他摘要	本发明公开了一种以金属玻璃为光刻胶的光刻方法，具体为：在衬底表面沉积金属玻璃材料光刻胶层，按照目标纳米图案对沉积得到的样品进行曝光，曝光部分达到晶化温度发生相变，产生纳米晶化图形；对曝光后带有纳米晶化图形的样品进行刻蚀形成所需的纳米图案。本发明利用金属玻璃材料替代有机光刻胶，能够得到的样品光刻线宽远小于激光聚焦光斑衍射极限，并且成本低，刻蚀选择比大。本发明还公开了实现上述方法的系统，主要包括计算机、任意波形发生器、半导体激光器、准直扩束镜、光束隔离器、分光镜、聚焦伺服机构、聚焦镜头、X-Y-θ三维位移台和聚焦伺服控制箱。该系统构成简单、性价比高、操作简单、对操作环境要求相对宽松，产出率高。
申请日期	2012-12-14
专利号	CN103048888B
专利状态	授权
申请号	CN201210545734.9
公开（公告）号	CN103048888B
IPC 分类号	G03F7/20
专利代理人	李智
代理机构	华中科技大学专利中心
文献类型	专利
条目标识符	http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/48601
专题	半导体激光器专利数据库
作者单位	华中科技大学
推荐引用方式 GB/T 7714	缪向水,曾笔鉴,李震,等. 一种以金属玻璃为光刻胶的光刻方法及系统. CN103048888B[P]. 2015-01-28.

条目包含的文件
文件名称/大小	文献类型	版本类型	开放类型	使用许可
CN103048888B.PDF（710KB）	专利		开放获取	CC BY-NC-SA	请求全文