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用於光電裝置之共振反射器
其他题名用於光電裝置之共振反射器
詹姆士 亞倫 寇斯; 羅伯特A 摩根
2003-09-11
专利权人哈尼威爾國際公司
公开日期2003-09-11
授权国家中国台湾
专利类型授权发明
摘要一種光電裝置,其在共振反射器與光電裝置相鄰導電層之間產生絕緣,該絕緣係在共振反射器與光電裝置相鄰導電層之間藉由提供緩衝或包覆層而完成。緩衝或包覆層宜具有足夠之厚度,或相對於共振反射器導波管之折射率而言其折射率夠低,以便有效防止導波管中受到導引且將消失之殘餘能量進入光電裝置之相鄰導電層中。
其他摘要一種光電裝置,其在共振反射器與光電裝置相鄰導電層之間產生絕緣,該絕緣係在共振反射器與光電裝置相鄰導電層之間藉由提供緩衝或包覆層而完成。緩衝或包覆層宜具有足夠之厚度,或相對於共振反射器導波管之折射率而言其折射率夠低,以便有效防止導波管中受到導引且將消失之殘餘能量進入光電裝置之相鄰導電層中。
申请日期2001-12-28
专利号TW552750B
专利状态失效
申请号TW090132816
公开(公告)号TW552750B
IPC 分类号H01S3/05 | G02B6/34 | H01S5/183 | H01S5/187 | H01S5/20 | H01S5/40 | H01S5/42
专利代理人陳長文
代理机构-
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/48325
专题半导体激光器专利数据库
作者单位哈尼威爾國際公司
推荐引用方式
GB/T 7714
詹姆士 亞倫 寇斯,羅伯特A 摩根. 用於光電裝置之共振反射器. TW552750B[P]. 2003-09-11.
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TW552750B.PDF(3512KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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