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生长在铝酸镁钪衬底上的GaN薄膜
其他题名生长在铝酸镁钪衬底上的GaN薄膜
李国强; 王文樑; 朱运农; 杨为家
2017-06-06
专利权人华南理工大学
公开日期2017-06-06
授权国家中国
专利类型实用新型
摘要本实用新型公开了生长在铝酸镁钪衬底上的GaN薄膜,包括依次生长在ScMgAlO4衬底上的GaN缓冲层,GaN形核层,GaN非晶层以及GaN薄膜。所述ScMgAlO4衬底以(0001)面偏(11‑20)面0.5~1°为外延面。与现有技术相比,本实用新型具有制备成本低廉的优点,GaN薄膜具有晶体质量好、缺陷密度低等特点。
其他摘要本实用新型公开了生长在铝酸镁钪衬底上的GaN薄膜,包括依次生长在ScMgAlO4衬底上的GaN缓冲层,GaN形核层,GaN非晶层以及GaN薄膜。所述ScMgAlO4衬底以(0001)面偏(11‑20)面0.5~1°为外延面。与现有技术相比,本实用新型具有制备成本低廉的优点,GaN薄膜具有晶体质量好、缺陷密度低等特点。
申请日期2016-08-29
专利号CN206225325U
专利状态授权
申请号CN201620979038.2
公开(公告)号CN206225325U
IPC 分类号H01L21/02 | H01L31/18 | H01L31/0304 | H01L33/00 | H01L33/32 | H01S5/323 | H01S5/343
专利代理人罗观祥
代理机构广州市华学知识产权代理有限公司
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/48277
专题半导体激光器专利数据库
作者单位华南理工大学
推荐引用方式
GB/T 7714
李国强,王文樑,朱运农,等. 生长在铝酸镁钪衬底上的GaN薄膜. CN206225325U[P]. 2017-06-06.
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