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氮化镓基化合物半导体器件
其他题名氮化镓基化合物半导体器件
李成男; 白好善; 孙重坤; 司空坦
2009-09-09
专利权人三星电子株式会社
公开日期2009-09-09
授权国家中国
专利类型授权发明
摘要提供了一种氮化镓(GaN)基化合物半导体器件,该器件具有改进在衬底上生长的薄膜的表面特性的结构。该GaN基化合物半导体器件包括:AlxInyGa1-x-yN衬底(0≤x≤1,0≤y≤1,且0≤x+y≤1),衬底表面相对于(0001)平面朝预定方向倾斜大于0°且小于1°的偏角;以及生长在该衬底上的GaN基化合物半导体层。
其他摘要提供了一种氮化镓(GaN)基化合物半导体器件,该器件具有改进在衬底上生长的薄膜的表面特性的结构。该GaN基化合物半导体器件包括:AlxInyGa1-x-yN衬底(0≤x≤1,0≤y≤1,且0≤x+y≤1),衬底表面相对于(0001)平面朝预定方向倾斜大于0°且小于1°的偏角;以及生长在该衬底上的GaN基化合物半导体层。
申请日期2005-11-14
专利号CN100539212C
专利状态失效
申请号CN200510124621
公开(公告)号CN100539212C
IPC 分类号H01L33/00 | H01L31/00 | H01S5/00 | H01L33/06 | H01L33/16 | H01L33/32
专利代理人陶凤波 | 侯宇
代理机构北京市柳沈律师事务所
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/48227
专题半导体激光器专利数据库
作者单位三星电子株式会社
推荐引用方式
GB/T 7714
李成男,白好善,孙重坤,等. 氮化镓基化合物半导体器件. CN100539212C[P]. 2009-09-09.
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CN100539212C.PDF(400KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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