Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
一种半导体结构及其形成方法 | |
其他题名 | 一种半导体结构及其形成方法 |
陈飞 | |
2016-08-03 | |
专利权人 | 比亚迪股份有限公司 |
公开日期 | 2016-08-03 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 授权发明 |
摘要 | 本发明提出了一种半导体结构及其形成方法,该半导体结构包括:衬底;形成在衬底之上的缓冲层;形成在缓冲层之上的第一类型氮化物层;形成在第一类型氮化物层之上的量子点结构,其中,量子点结构包括闪锌矿InxGa(1‑x)N量子点,其中,0≤x≤1;以及形成在量子点结构之上的第二类型氮化物层。该半导体结构包括闪锌矿氮化物量子点结构,消除了极化效应,提高了量子效率。 |
其他摘要 | 本发明提出了一种半导体结构及其形成方法,该半导体结构包括:衬底;形成在衬底之上的缓冲层;形成在缓冲层之上的第一类型氮化物层;形成在第一类型氮化物层之上的量子点结构,其中,量子点结构包括闪锌矿InxGa(1‑x)N量子点,其中,0≤x≤1;以及形成在量子点结构之上的第二类型氮化物层。该半导体结构包括闪锌矿氮化物量子点结构,消除了极化效应,提高了量子效率。 |
申请日期 | 2011-12-29 |
专利号 | CN103187498B |
专利状态 | 授权 |
申请号 | CN201110453892 |
公开(公告)号 | CN103187498B |
IPC 分类号 | H01L33/06 | H01L33/18 | H01L33/32 | H01L33/00 | H01S5/343 |
专利代理人 | 张大威 |
代理机构 | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/48208 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 比亚迪股份有限公司 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 陈飞. 一种半导体结构及其形成方法. CN103187498B[P]. 2016-08-03. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
CN103187498B.PDF(169KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
个性服务 |
推荐该条目 |
保存到收藏夹 |
查看访问统计 |
导出为Endnote文件 |
谷歌学术 |
谷歌学术中相似的文章 |
[陈飞]的文章 |
百度学术 |
百度学术中相似的文章 |
[陈飞]的文章 |
必应学术 |
必应学术中相似的文章 |
[陈飞]的文章 |
相关权益政策 |
暂无数据 |
收藏/分享 |
除非特别说明,本系统中所有内容都受版权保护,并保留所有权利。
修改评论