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一种半导体结构及其形成方法
其他题名一种半导体结构及其形成方法
陈飞
2016-08-03
专利权人比亚迪股份有限公司
公开日期2016-08-03
授权国家中国
专利类型授权发明
摘要本发明提出了一种半导体结构及其形成方法,该半导体结构包括:衬底;形成在衬底之上的缓冲层;形成在缓冲层之上的第一类型氮化物层;形成在第一类型氮化物层之上的量子点结构,其中,量子点结构包括闪锌矿InxGa(1‑x)N量子点,其中,0≤x≤1;以及形成在量子点结构之上的第二类型氮化物层。该半导体结构包括闪锌矿氮化物量子点结构,消除了极化效应,提高了量子效率。
其他摘要本发明提出了一种半导体结构及其形成方法,该半导体结构包括:衬底;形成在衬底之上的缓冲层;形成在缓冲层之上的第一类型氮化物层;形成在第一类型氮化物层之上的量子点结构,其中,量子点结构包括闪锌矿InxGa(1‑x)N量子点,其中,0≤x≤1;以及形成在量子点结构之上的第二类型氮化物层。该半导体结构包括闪锌矿氮化物量子点结构,消除了极化效应,提高了量子效率。
申请日期2011-12-29
专利号CN103187498B
专利状态授权
申请号CN201110453892
公开(公告)号CN103187498B
IPC 分类号H01L33/06 | H01L33/18 | H01L33/32 | H01L33/00 | H01S5/343
专利代理人张大威
代理机构北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/48208
专题半导体激光器专利数据库
作者单位比亚迪股份有限公司
推荐引用方式
GB/T 7714
陈飞. 一种半导体结构及其形成方法. CN103187498B[P]. 2016-08-03.
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文件名称/大小 文献类型 版本类型 开放类型 使用许可
CN103187498B.PDF(169KB)专利 开放获取CC BY-NC-SA请求全文
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