Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
p-ZnO和n-GaN组合的多层端发射激光器及制备方法 | |
其他题名 | p-ZnO和n-GaN组合的多层端发射激光器及制备方法 |
杜国同; 夏晓川; 赵旺; 梁红伟; 张宝林 | |
2013-07-10 | |
专利权人 | 圆融光电科技股份有限公司 |
公开日期 | 2013-07-10 |
授权国家 | 中国 |
专利类型 | 授权发明 |
摘要 | 本发明属于半导体发光器件技术领域,涉及几种p-ZnO和n-GaN组合的多层端发射激光器及其制备方法。其芯片依次由衬底、n-GaN外延层、Ga2O3或n型AlGaN电流下限制层、p-ZnO基材料发光层、p型宽带隙ZnO基三元系材料电流上限制层、上电极构成,衬底是导电的GaAs晶体片、导电的InP晶体片、导电的SiC晶体片或导电的GaN晶体片,其导电类型和GaN外延层相同,衬底下面制备有下电极,由芯片解理的前、后端面构成前反射镜和后反射镜,器件在前反射镜和后反射镜出光。本发明制备了ZnO基激光器的可控谐振腔,可以降低激光器的阈值电流,提高器件输出功率,使激光的方向变好,进一步拓展了器件的应用范围。 |
其他摘要 | 本发明属于半导体发光器件技术领域,涉及几种p-ZnO和n-GaN组合的多层端发射激光器及其制备方法。其芯片依次由衬底、n-GaN外延层、Ga2O3或n型AlGaN电流下限制层、p-ZnO基材料发光层、p型宽带隙ZnO基三元系材料电流上限制层、上电极构成,衬底是导电的GaAs晶体片、导电的InP晶体片、导电的SiC晶体片或导电的GaN晶体片,其导电类型和GaN外延层相同,衬底下面制备有下电极,由芯片解理的前、后端面构成前反射镜和后反射镜,器件在前反射镜和后反射镜出光。本发明制备了ZnO基激光器的可控谐振腔,可以降低激光器的阈值电流,提高器件输出功率,使激光的方向变好,进一步拓展了器件的应用范围。 |
申请日期 | 2010-10-09 |
专利号 | CN102263370B |
专利状态 | 失效 |
申请号 | CN201110173444.1 |
公开(公告)号 | CN102263370B |
IPC 分类号 | H01S5/18 | H01S5/20 | H01S5/10 |
专利代理人 | 张景林 | 刘喜生 |
代理机构 | 长春吉大专利代理有限责任公司 |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/48176 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | 圆融光电科技股份有限公司 |
推荐引用方式 GB/T 7714 | 杜国同,夏晓川,赵旺,等. p-ZnO和n-GaN组合的多层端发射激光器及制备方法. CN102263370B[P]. 2013-07-10. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
CN102263370B.PDF(1039KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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