Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
Optical semiconductor device, optical subassembly, and optical module | |
其他题名 | Optical semiconductor device, optical subassembly, and optical module |
KITATANI, TAKESHI; OKAMOTO, KAORU; NAKAHARA, KOUJI | |
2019-06-04 | |
专利权人 | LUMENTUM JAPAN, INC. |
公开日期 | 2019-06-04 |
授权国家 | 美国 |
专利类型 | 授权发明 |
摘要 | An optical semiconductor device includes an InP substrate; an active layer disposed above the InP substrate; a n-type semiconductor layer disposed below the active layer; and a p-type clad layer disposed above the active layer, wherein the p-type clad layer includes one or more p-type In1-xAlxP layers, the Al composition x of each of the one or more p-type In1-xAlxP layers is equal to or greater than a value corresponding to the doping concentration of a p-type dopant, and the absolute value of the average strain amount of the whole of the p-type clad layer is equal to or less than the absolute value of a critical strain amount obtained by Matthews' relational expression, using the entire layer thickness of the whole of the p-type clad layer as a critical layer thickness. |
其他摘要 | 光学半导体器件包括InP衬底;设置在InP衬底上方的有源层;设置在有源层下方的n型半导体层;和设置在有源层上方的p型覆层,其中p型覆层包括一个或多个p型In 1-x Al x P层,一个或多个p型In 1-x Al x P层中的每一个的Al组分x等于或大于对应于掺杂浓度的值。 p型掺杂剂,整个p型覆层的平均应变量的绝对值等于或小于Matthews关系式得到的临界应变量的绝对值,使用整个层整个p型覆层的厚度作为临界层厚度。 |
申请日期 | 2018-06-04 |
专利号 | US10312665 |
专利状态 | 授权 |
申请号 | US15/996562 |
公开(公告)号 | US10312665 |
IPC 分类号 | H01S5/00 | H01S5/026 | H01S5/22 | H01S5/343 | H01S5/042 | H01S5/02 | H01S5/30 | H01S5/34 | H01S5/12 | H01S5/32 |
专利代理人 | - |
代理机构 | MATTINGLY & MALUR, PC |
文献类型 | 专利 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/47870 |
专题 | 半导体激光器专利数据库 |
作者单位 | LUMENTUM JAPAN, INC. |
推荐引用方式 GB/T 7714 | KITATANI, TAKESHI,OKAMOTO, KAORU,NAKAHARA, KOUJI. Optical semiconductor device, optical subassembly, and optical module. US10312665[P]. 2019-06-04. |
条目包含的文件 | ||||||
文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
US10312665.PDF(1620KB) | 专利 | 开放获取 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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